反波导面发射激光器及其二维耦合阵列研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-24页 |
| 1.1 垂直腔面发射激光器的发展历程 | 第10-12页 |
| 1.2 反波导垂直腔面发射激光器 | 第12-16页 |
| 1.3 二维耦合垂直腔面发射激光器阵列 | 第16-21页 |
| 1.4 本文的主要工作 | 第21-22页 |
| 1.5 内容安排 | 第22-24页 |
| 第2章 垂直腔面发射激光器的理论基础 | 第24-36页 |
| 2.1 垂直腔面发射激光器的基本原理 | 第24-28页 |
| 2.2 垂直腔面发射激光器的模式特性 | 第28-35页 |
| 2.2.1 垂直腔面发射激光器的纵模特性 | 第28-32页 |
| 2.2.2 垂直腔面发射激光器的横模特性 | 第32-35页 |
| 2.3 本章小结 | 第35-36页 |
| 第3章 质子注入关键技术研究 | 第36-52页 |
| 3.1 注入形成绝缘层的机理 | 第36-37页 |
| 3.2 注入参数的确定 | 第37-43页 |
| 3.3 质子注入型垂直腔面发射激光器的制备 | 第43-51页 |
| 3.4 本章小结 | 第51-52页 |
| 第4章 反波导垂直腔面发射激光器 | 第52-90页 |
| 4.1 反波导面发射激光器的基本原理 | 第52-54页 |
| 4.2 ARROW结构的模式及其损耗分析 | 第54-63页 |
| 4.2.1 模型的建立 | 第55-56页 |
| 4.2.2 光场的计算和分析 | 第56-58页 |
| 4.2.3 损耗分析 | 第58-62页 |
| 4.2.4 FDTD 仿真结果与分析 | 第62-63页 |
| 4.3 二次外延反波导面发射激光器 | 第63-81页 |
| 4.3.1 腔诱导结构 | 第63-66页 |
| 4.3.2 MOCVD 及二次外延 | 第66-70页 |
| 4.3.3 器件制备与分析 | 第70-81页 |
| 4.4 基于介质膜反射镜的反波导面发射激光器 | 第81-87页 |
| 4.4.1 器件的制备 | 第82-85页 |
| 4.4.2 测试与分析 | 第85-87页 |
| 4.5 本章小结 | 第87-90页 |
| 第5章 质子注入型同相耦合阵列 | 第90-108页 |
| 5.1 质子注入型阵列的弱反波导效应的模型建立 | 第90-93页 |
| 5.2 具有高光束质量的 2×2 同相耦合阵列 | 第93-100页 |
| 5.2.1 阵列掩膜的制备 | 第94-95页 |
| 5.2.2 测试与分析 | 第95-100页 |
| 5.3 3×3 同相耦合阵列 | 第100-105页 |
| 5.4 堆密积阵列 | 第105-107页 |
| 5.5 本章小结 | 第107-108页 |
| 结论 | 第108-110页 |
| 参考文献 | 第110-120页 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第120-122页 |
| 致谢 | 第122页 |
