| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-15页 |
| 1.1 前言 | 第8页 |
| 1.2 微弧氧化简介 | 第8-11页 |
| 1.2.1 微弧氧化的概念 | 第8-9页 |
| 1.2.2 微弧氧化技术及其膜层的特点 | 第9-10页 |
| 1.2.3 微弧氧化电解液及工艺参数 | 第10-11页 |
| 1.3 微弧氧化机理的认识与发展 | 第11-13页 |
| 1.3.1 微弧氧化放电模型及温度的研究 | 第11-13页 |
| 1.3.2 微弧氧化膜层生长方式研究 | 第13页 |
| 1.4 本课题研究的主要内容 | 第13-15页 |
| 第2章 实验材料与实验方法 | 第15-21页 |
| 2.1 实验材料及试剂 | 第15-16页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第15页 |
| 2.1.2 实验试剂 | 第15-16页 |
| 2.2 实验装置 | 第16页 |
| 2.3 微弧氧化工艺流程 | 第16-19页 |
| 2.3.1 试样前处理 | 第17页 |
| 2.3.2 微弧氧化前处理 | 第17-18页 |
| 2.3.3 微弧氧化处理 | 第18页 |
| 2.3.4 微弧氧化膜层与基体的分离 | 第18-19页 |
| 2.4 微弧氧化膜层性能表征 | 第19-21页 |
| 2.4.1 微弧氧化膜层厚度测量 | 第19页 |
| 2.4.2 微弧氧化膜层粗糙度测量 | 第19页 |
| 2.4.3 微弧氧化膜层物相分析 | 第19页 |
| 2.4.4 微弧氧化膜层微观形貌及元素分析 | 第19-20页 |
| 2.4.5 微弧氧化过程的观察 | 第20-21页 |
| 第3章 TC4钛合金微弧氧化复合膜制备及膜层分析 | 第21-31页 |
| 3.1 前言 | 第21页 |
| 3.2 TC4钛合金微弧氧化复合膜的制备 | 第21-23页 |
| 3.3 TC4钛合金微弧氧化膜层致密度 | 第23-24页 |
| 3.4 TC4钛合金微弧氧化膜层P-B比 | 第24-25页 |
| 3.5 不同反应时间的TC4钛合金微弧氧化膜层粗糙度 | 第25-29页 |
| 3.6 本章小结 | 第29-31页 |
| 第4章 TC4钛合金微弧氧化膜层形成温度研究 | 第31-53页 |
| 4.1 前言 | 第31页 |
| 4.2 α-Al_2O_3复合膜的微观形貌观察及元素分析 | 第31-36页 |
| 4.3 ZrO_2复合膜的微观形貌观察及元素分析 | 第36-40页 |
| 4.4 W-微弧氧化复合膜中W的复合量检测 | 第40-41页 |
| 4.5 W-微弧氧化复合膜W粉颗粒形貌及W元素分析 | 第41-49页 |
| 4.6 W-微弧氧化复合膜摩擦磨损性能 | 第49-52页 |
| 4.7 本章小结 | 第52-53页 |
| 第5章 TC4钛合金微弧氧化膜层生长方式研究 | 第53-70页 |
| 5.1 前言 | 第53页 |
| 5.2 TC4钛合金微弧氧化膜层截面观察与元素分析 | 第53-55页 |
| 5.3 Na_2WO_4标记膜层熔池代的研究 | 第55-57页 |
| 5.4 TC4钛合金微弧氧化过程的观察 | 第57-64页 |
| 5.5 TC4钛合金微弧氧化膜层/基体界面与膜层表面分析 | 第64页 |
| 5.6 微弧氧化反应时间,膜层厚度,熔池大小关系研究 | 第64-69页 |
| 5.7 本章小结 | 第69-70页 |
| 第6章 结论 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-78页 |
| 攻读硕士期间发表论文 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
