摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-10页 |
第一章 绪论 | 第10-26页 |
·引言 | 第10页 |
·铁电材料的研究历史 | 第10-14页 |
·铁电性的发现 | 第10-11页 |
·铁电材料的结构类型 | 第11-13页 |
·铁电材料的性质 | 第13页 |
·铁电材料的应用 | 第13-14页 |
·钛酸钡薄膜的结构,性能及研究进展 | 第14-20页 |
·钛酸钡的晶体结构 | 第14-17页 |
·钛酸钡铁电性的产生机理 | 第17-18页 |
·钛酸钡的应用 | 第18页 |
·钛酸钡的研究进展及实际意义 | 第18-20页 |
·BTO薄膜的制备方法 | 第20-25页 |
·溶胶-凝胶(Sol-Gel)法 | 第20-22页 |
·脉冲激光沉积法(PLD) | 第22-23页 |
·溅射法 | 第23-24页 |
·化学气相沉积法 | 第24页 |
·分子束外延 | 第24-25页 |
·本论文的工作 | 第25-26页 |
第二章 掺杂BTO薄膜的Sol-Gel法生长 | 第26-32页 |
·掺杂钛酸钡薄膜前驱体的制备 | 第26-29页 |
·前躯体配制前的计算准备 | 第27-28页 |
·掺Fe钛酸钡薄膜前驱体的制备 | 第28-29页 |
·掺Co钛酸钡薄膜前驱体的制备 | 第29页 |
·掺Zn钛酸钡薄膜前驱体的制备 | 第29页 |
·匀胶过程 | 第29-30页 |
·快速热退火 | 第30页 |
·LaNiO_3(LNO)导电衬底的制备 | 第30-31页 |
·本章小结 | 第31-32页 |
第三章 掺杂BTO薄膜的晶格结构和表面形貌研究 | 第32-40页 |
·掺杂BTO薄膜的晶格结构研究 | 第32-37页 |
·低温条件下退火 | 第32-33页 |
·BTO前躯体中掺入乳酸 | 第33-34页 |
·不同衬底上的BTO薄膜 | 第34-36页 |
·Fe掺杂和Co掺杂BTO薄膜 | 第36-37页 |
·掺杂BTO薄膜的表面形貌 | 第37-39页 |
·本章小结 | 第39-40页 |
第四章 掺杂BTO薄膜的介电及铁电性能研究 | 第40-62页 |
·掺杂BTO薄膜的介电性能研究 | 第40-44页 |
·BCTO和BFTO薄膜的介电常数和介电损耗与频率关系 | 第42-43页 |
·不同退火温度下掺杂BTO薄膜的介电常数和介电损耗与频率关系 | 第43-44页 |
·掺杂BTO薄膜的铁电性能研究 | 第44-50页 |
·掺杂BTO薄膜介电常数、介电损耗与电场强度的关系 | 第50-53页 |
·未掺杂BTO薄膜的介电常数、介电损耗与电场强度的关系 | 第50-51页 |
·BFTO薄膜的介电常数、介电损耗与电场强度的关系 | 第51-53页 |
·BTO薄膜其他性能探究 | 第53-60页 |
·掺杂BTO薄膜的拉曼光谱 | 第53-54页 |
·掺杂BTO薄膜的反射谱 | 第54-55页 |
·BFTO薄膜的磁性检测 | 第55-56页 |
·ZnO量子点掺杂BTO薄膜的光致发光(PL)谱 | 第56-57页 |
·BTO薄膜的脉冲激光沉积(PLD)法生长工艺探究 | 第57-60页 |
·本章小结 | 第60-62页 |
第五章 结论与展望 | 第62-64页 |
参考文献 | 第64-66页 |
致谢 | 第66-67页 |
攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第67-68页 |