PLD法制备BST铁电薄膜及其性质的研究
| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-20页 |
| ·铁电材料的概念介绍和进展状况 | 第11-13页 |
| ·铁电材料概念介绍 | 第11-12页 |
| ·铁电材料研究进展简介 | 第12页 |
| ·铁电材料应用简介 | 第12-13页 |
| ·钛酸锶钡材料的特点和研究进展 | 第13-18页 |
| ·BST的基本结构 | 第13-15页 |
| ·BST的性能和制备方法 | 第15-17页 |
| ·BST材料的应用简介 | 第17-18页 |
| ·本文研究目的及意义 | 第18-20页 |
| 第二章 薄膜样品的制备 | 第20-26页 |
| ·脉冲激光沉积工艺原理 | 第20-22页 |
| ·本文中采用的PLD法沉积工艺流程 | 第22-24页 |
| ·对脉冲激光沉积工艺的改进 | 第24页 |
| ·本章小结 | 第24-26页 |
| 第三章 BST薄膜的结构和成分分析 | 第26-36页 |
| ·BST薄膜的XRD分析 | 第26-29页 |
| ·X射线衍射分析(XRD) | 第26-27页 |
| ·沉积温度对薄膜质量的影响 | 第27-28页 |
| ·不同衬底对薄膜生长的影响 | 第28-29页 |
| ·BST薄膜的AFM分析 | 第29-32页 |
| ·原子力显微镜分析(AFM) | 第29-30页 |
| ·BST薄膜的表面形貌分析(AFM) | 第30-32页 |
| ·BST薄膜的AES/XPS分析 | 第32-35页 |
| ·X射线光电子能谱分析(XPS) | 第32-33页 |
| ·BST薄膜的AES与XPS能谱分析 | 第33-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 BST薄膜的电学特性分析 | 第36-46页 |
| ·BST薄膜的C-F特性研究 | 第36-37页 |
| ·BST薄膜的C-V特性及其不对称性的研究 | 第37-40页 |
| ·BST薄膜的介电性能与可调谐性的研究 | 第40-43页 |
| ·BST薄膜的铁电性的研究 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 第五章 结论及展望 | 第46-48页 |
| ·本文结论 | 第46-47页 |
| ·展望 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第51页 |
