摘要 | 第5-7页 |
abstract | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第12-31页 |
1.1 研究工作的背景与意义 | 第12页 |
1.2 铁磁薄膜的高频磁响应研究基础 | 第12-19页 |
1.2.1 一致进动 | 第13-15页 |
1.2.2 非一致进动 | 第15-19页 |
1.3 微纳结构对高频磁特性影响的研究现状 | 第19-27页 |
1.3.1 畴壁 | 第19-22页 |
1.3.2 磁涡旋态 | 第22-24页 |
1.3.3 磁Skyrmion | 第24-27页 |
1.3.4 基于研究现状的挑战 | 第27页 |
1.4 本文的主要内容与创新 | 第27-28页 |
1.5 本论文的结构安排 | 第28-31页 |
第二章 微磁学理论与求解方法 | 第31-42页 |
2.1 微磁学基础 | 第31-34页 |
2.1.1 静磁能 | 第31-32页 |
2.1.2 交换能 | 第32页 |
2.1.3 磁晶各向异性能 | 第32-33页 |
2.1.4 塞曼能 | 第33页 |
2.1.5 静态微磁学 | 第33页 |
2.1.6 动态微磁学 | 第33-34页 |
2.2 OOMMF微磁模拟 | 第34-41页 |
2.2.1 数值计算方法 | 第35-36页 |
2.2.2 软件介绍 | 第36-37页 |
2.2.3 OOMMF微磁模拟计算的有效性 | 第37-41页 |
2.3 本章小结 | 第41-42页 |
第三章 FeCo基软磁薄膜的静磁与高频磁响应特性研究 | 第42-63页 |
3.1 FeCoB软磁薄膜的物理特性分析 | 第42-46页 |
3.1.1 FeCoB薄膜的制备 | 第42-43页 |
3.1.2 FeCoB薄膜的结构表征 | 第43页 |
3.1.3 FeCoB薄膜的静磁特性研究 | 第43-45页 |
3.1.4 FeCoB薄膜的高频磁响应特性 | 第45-46页 |
3.2 具备可调高频响应的微磁学模型研究 | 第46-47页 |
3.2.1 模型的建立 | 第46页 |
3.2.2 薄膜厚度对高频磁响应的影响 | 第46-47页 |
3.3 FeCoNbBCu软磁薄膜的结构与静磁特性研究 | 第47-55页 |
3.3.1 FeCoNbBCu薄膜的制备 | 第47-49页 |
3.3.2 FeCoNbBCu薄膜的结构表征 | 第49-52页 |
3.3.3 FeCoNbBCu薄膜的静磁特性研究 | 第52-55页 |
3.4 FeCoNbBCu薄膜的高频磁响应特性研究 | 第55-59页 |
3.4.1 薄膜厚度对高频响应特性影响的研究 | 第55-58页 |
3.4.2 静磁特性与动态磁特性之间的联系 | 第58-59页 |
3.5 FeCoNbBCu薄膜的趋肤效应研究 | 第59-61页 |
3.5.1 电性能测试原理与方法 | 第59-60页 |
3.5.2 磁性涡流损耗 | 第60-61页 |
3.6 本章小结 | 第61-63页 |
第四章 条纹状磁性薄膜的共振峰的调控与机理 | 第63-79页 |
4.1 图形化薄膜的制备方法 | 第63-64页 |
4.2 非耦合条纹状薄膜中结构参数对共振行为的影响 | 第64-69页 |
4.2.1 条纹厚度对共振频率的调控作用 | 第65-66页 |
4.2.2 条纹宽度对共振频率的调控作用 | 第66-68页 |
4.2.3 条纹长度对共振频率的调控作用 | 第68-69页 |
4.3 非耦合条纹状薄膜中磁性参数对共振行为的影响 | 第69-72页 |
4.3.1 磁各向异性对共振频率的调控作用 | 第69-70页 |
4.3.2 饱和磁化强度对共振频率的调控作用 | 第70-71页 |
4.3.3 多共振峰的叠加方法 | 第71-72页 |
4.4 边缘结构对共振模式的影响 | 第72-77页 |
4.4.1 边缘倾斜的条纹薄膜的制备 | 第72-73页 |
4.4.2 多共振峰机理研究 | 第73-75页 |
4.4.3 边界条件应用 | 第75-77页 |
4.5 本章小结 | 第77-79页 |
第五章 纳米圆盘中磁结构的稳定性与高频磁响应特性的研究 | 第79-91页 |
5.1 多层纳米圆盘中磁结构和高频激发模式的研究 | 第79-84页 |
5.1.1 三明治结构的纳米圆盘 | 第79-81页 |
5.1.2 不同磁结构的动态特性 | 第81-84页 |
5.2 纳米圆盘中的vortex磁畴结构研究 | 第84-89页 |
5.2.1 vortex磁畴局限性 | 第84页 |
5.2.2 结构单元设计方案的依据和可行性 | 第84-85页 |
5.2.3 微磁模型 | 第85-87页 |
5.2.4 外场激励对手性和极性的影响 | 第87-89页 |
5.3 本章小结 | 第89-91页 |
第六章 双层薄膜中类Skyrmion态及其高频磁响应特性的研究 | 第91-108页 |
6.1 FePt薄膜的磁特性研究 | 第91-98页 |
6.1.1 L10FePt薄膜的制备 | 第91-92页 |
6.1.2 厚度对L10FePt薄膜的影响 | 第92-95页 |
6.1.3 温度对L10FePt薄膜的影响 | 第95-96页 |
6.1.4 L10FePt薄膜磁反转机制的研究 | 第96-98页 |
6.2 FePt/FeNi双层薄膜的制备与磁特性研究 | 第98-100页 |
6.2.1 FeNi阵列薄膜的制备 | 第98页 |
6.2.2 FePt/FeNi双层薄膜的结构与磁特性 | 第98-100页 |
6.3 微磁模型 | 第100-107页 |
6.3.1 Skyrmion稳定性分析 | 第100-102页 |
6.3.2 Skyrmion磁结构中多共振模式的激发 | 第102-105页 |
6.3.3 单元间距对Skyrmion磁特性的影响 | 第105-107页 |
6.4 本章小结 | 第107-108页 |
第七章 全文总结与展望 | 第108-111页 |
7.1 全文总结 | 第108-110页 |
7.2 后续工作展望 | 第110-111页 |
致谢 | 第111-112页 |
参考文献 | 第112-127页 |
攻读博士学位期间取得的成果 | 第127页 |