| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 研究背景 | 第10-11页 |
| 1.2 晶体中分子间弱相互作用类型 | 第11-16页 |
| 1.2.1 氢键 | 第11-14页 |
| 1.2.2 卤键 | 第14页 |
| 1.2.3 范德华作用 | 第14-15页 |
| 1.2.4 π-π相互作用 | 第15-16页 |
| 1.3 晶体工程的研究进展 | 第16-17页 |
| 1.4 研究内容和目的 | 第17-18页 |
| 参考文献 | 第18-21页 |
| 第二章 理论计算方法 | 第21-28页 |
| 2.1 量子化学发展历程 | 第21页 |
| 2.2 分子间弱相互作用的量子化学计算方法 | 第21-23页 |
| 2.2.1 Hartree-Fock(HF)方法 | 第21-22页 |
| 2.2.2 M?ller-Plesset(MP)方法 | 第22-23页 |
| 2.2.3 密度泛函理论(DFT)方法 | 第23页 |
| 2.3 基组重叠误差矫正(BSSE) | 第23-24页 |
| 2.4 Hirshfeld表面分析分子间弱相互作用 | 第24-26页 |
| 2.4.1 Hirshfeld表面分析概述 | 第24页 |
| 2.4.2 Hirshfeld表面分析原理 | 第24-25页 |
| 2.4.3 一些典型弱相互作用的指纹图 | 第25-26页 |
| 参考文献 | 第26-28页 |
| 第三章 芬那酸晶体中存在两个不对称单元的起因研究 | 第28-47页 |
| 3.1 引言 | 第28-29页 |
| 3.2 理论方法 | 第29页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第29-43页 |
| 3.4 总结 | 第43页 |
| 参考文献 | 第43-47页 |
| 第四章 Hirshfeld表面分析研究分子晶体中的弱相互作用 | 第47-66页 |
| 4.1 引言 | 第47-48页 |
| 4.2 理论方法 | 第48-49页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第49-63页 |
| 4.3.1 烟酸及其衍生物分子晶体结构分析 | 第49-55页 |
| 4.3.2 芬那酸及其衍生物分子晶体结构分析 | 第55-63页 |
| 4.4 总结 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-66页 |
| 在学期间的研究成果 | 第66-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
