摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5页 |
第1章 绪论 | 第8-16页 |
1.1 研究背景 | 第8页 |
1.2 国内外研究进展 | 第8-9页 |
1.3 选题依据 | 第9-15页 |
1.3.1 EET基本内容 | 第10-12页 |
1.3.2 EET基本名词 | 第12-13页 |
1.3.3 等同键数I_A | 第13-14页 |
1.3.4 lg(r_α)方程 | 第14页 |
1.3.5 统计平均值法 | 第14-15页 |
1.4 研究目的及内容 | 第15-16页 |
第2章 合金渗碳体的价电子结构(VES) | 第16-30页 |
2.1 渗碳体的VES | 第16-20页 |
2.1.1 实验键距与等同键数 | 第17页 |
2.1.2 r_α与n_1方程 | 第17-18页 |
2.1.3 理论键距与键距差 | 第18-20页 |
2.2 合金渗碳体VES计算模型 | 第20-23页 |
2.3 合金渗碳体的VES | 第23-28页 |
2.3.1 等同键数 | 第23页 |
2.3.2 键能 | 第23-25页 |
2.3.3 VES | 第25-28页 |
2.4 合金渗碳体键能变化分析 | 第28-29页 |
2.5 小结 | 第29-30页 |
第3章 合金渗碳体的稳定性 | 第30-36页 |
3.1 稳定性影响因子P | 第30-31页 |
3.2 P的EET计算 | 第31-33页 |
3.3 结果分析 | 第33-35页 |
3.4 小结 | 第35-36页 |
第4章 合金渗碳体溶解与样品饱和磁化强度 | 第36-52页 |
4.1 实验材料制备 | 第36-37页 |
4.1.1 冶炼及化学分析 | 第36页 |
4.1.2 加工及热处理 | 第36-37页 |
4.2 磁性测量 | 第37-38页 |
4.3 掺V、Mn合金渗碳体与θ-Fe_3C稳定性比较 | 第38-39页 |
4.4 试样组元的Ms | 第39-40页 |
4.5 试样Ms | 第40-41页 |
4.6 渗碳体的溶解对Ms的影响 | 第41-51页 |
4.6.1 渗碳体溶解模型的建立 | 第41-43页 |
4.6.2 渗碳体溶解的阶段变化 | 第43-48页 |
4.6.3 Ms计算结果与分析 | 第48-49页 |
4.6.4 拉拔后Fe原子杂化状态 | 第49-51页 |
4.7 小结 | 第51-52页 |
第5章 结论 | 第52-53页 |
致谢 | 第53-54页 |
参考文献 | 第54-58页 |
附录1 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第58页 |