| 内容提要 | 第5-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-45页 |
| 1.1 表面图案化的技术 | 第11-13页 |
| 1.1.1 "自上而下"的表面图案化技术 | 第11-12页 |
| 1.1.2 "自下而上"的表面图案化技术 | 第12-13页 |
| 1.2 LB膜简述 | 第13-20页 |
| 1.2.1 LB膜的发展历史 | 第13-14页 |
| 1.2.2 LB膜制备的基本过程 | 第14-15页 |
| 1.2.3 LB膜的特点 | 第15页 |
| 1.2.4 LB膜的成膜方式 | 第15-16页 |
| 1.2.5 LB膜的提拉方式 | 第16-17页 |
| 1.2.5.1 垂直提拉法 | 第17页 |
| 1.2.5.2 水平附着法 | 第17页 |
| 1.2.6 表征LB膜的技术 | 第17-18页 |
| 1.2.7 传统LB膜的应用 | 第18-20页 |
| 1.2.7.1 电致发光器件 | 第18-19页 |
| 1.2.7.2 场效应晶体管 | 第19页 |
| 1.2.7.3 非线性光学材料 | 第19-20页 |
| 1.2.7.4 其他功能LB膜 | 第20页 |
| 1.2.7.4.1 导电LB膜 | 第20页 |
| 1.2.7.4.2 磁性LB膜 | 第20页 |
| 1.3 LB技术在表面图案化领域的应用 | 第20-31页 |
| 1.3.1 纳米粒子薄膜的组装 | 第20-23页 |
| 1.3.1.1 金属纳米粒子薄膜的组装 | 第21-22页 |
| 1.3.1.2 氧化物纳米粒子薄膜的组装 | 第22页 |
| 1.3.1.3 硫化物纳米粒子薄膜的组装 | 第22-23页 |
| 1.3.2 纳米粒子二维点阵的组装 | 第23-25页 |
| 1.3.2.1 金属纳米粒子二维点阵 | 第23页 |
| 1.3.2.2 氧化物纳米粒子二维点阵 | 第23页 |
| 1.3.2.3 硫化物纳米粒子二维点阵 | 第23-24页 |
| 1.3.2.4 胶体晶体纳米粒子二维点阵 | 第24-25页 |
| 1.3.3 纳米粒子一维结构的组装 | 第25-26页 |
| 1.3.3.1 球形纳米粒子一维结构的组装 | 第25-26页 |
| 1.3.3.2 一维纳米粒子的组装 | 第26页 |
| 1.3.4 构筑图案化的有机单层膜 | 第26-29页 |
| 1.3.4.1 条带结构有机单层膜的构筑 | 第27-29页 |
| 1.3.4.2 岛状结构有机单层膜的构筑 | 第29页 |
| 1.3.5 与其他技术结合构筑图案化的表面微结构 | 第29-31页 |
| 1.3.5.1 与微接触印刷技术结合 | 第29-30页 |
| 1.3.5.2 与平板印刷术结合 | 第30-31页 |
| 1.4 本论文的研究思路及主要内容 | 第31-33页 |
| 参考文献 | 第33-45页 |
| 第2章 图案化LB单层膜诱导有机发光小分子定位沉积 | 第45-65页 |
| 2.1 引言 | 第45页 |
| 2.2 实验部分 | 第45-47页 |
| 2.2.1 实验所需试剂 | 第45-46页 |
| 2.2.2 LB转移过程 | 第46-47页 |
| 2.2.3 荧光图案的形成 | 第47页 |
| 2.2.4 表征方法 | 第47页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第47-58页 |
| 2.3.1 ANP分子的选择性沉积 | 第47-48页 |
| 2.3.2 影响ANP选择性沉积的因素 | 第48-50页 |
| 2.3.3 强度不同的荧光条带结构的形成 | 第50-52页 |
| 2.3.4 分子相态调控有机发光小分子定位沉积的普适性 | 第52-56页 |
| 2.3.5 有机发光小分子定位沉积的机理研究 | 第56-58页 |
| 2.4 本章小结 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 第3章 条带结构LB单层膜诱导有机半导体分子各向异性生长 | 第65-83页 |
| 3.1 引言 | 第65-66页 |
| 3.2 实验部分 | 第66-67页 |
| 3.2.1 仪器与试剂 | 第66页 |
| 3.2.2 表征方法 | 第66-67页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第67-76页 |
| 3.3.1 迁移率各向异性的Perylene薄膜晶体管的制备 | 第67-72页 |
| 3.3.1.1 器件的制备过程 | 第67-68页 |
| 3.3.1.2 Perylene在DPPC条带结构表面的各向异性生长 | 第68-69页 |
| 3.3.1.3 Perylene分子各向异性生长的性质表征 | 第69-71页 |
| 3.3.1.4 Perylene薄膜的器件性质 | 第71-72页 |
| 3.3.2 DPPC条带诱导有机半导体分子各向异性生长的普适性 | 第72-76页 |
| 3.3.2.1 并五苯薄膜的各向异性生长 | 第73-74页 |
| 3.3.2.2 对六联苯薄膜的各向异性生长 | 第74-76页 |
| 3.3.2.3 六噻吩薄膜的各向异性生长 | 第76页 |
| 3.4 本章小结 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-83页 |
| 第4章 以岛状LB单层膜图案为掩模板,湿法刻蚀构筑抗反射微结构 | 第83-95页 |
| 4.1 引言 | 第83-84页 |
| 4.2 实验部分 | 第84-87页 |
| 4.2.1 试剂和仪器 | 第84-85页 |
| 4.2.2 抗反射微结构的构筑过程 | 第85-87页 |
| 4.2.2.1 岛状LB单层膜图案的构筑 | 第85-86页 |
| 4.2.2.2 KOH溶液刻蚀过程 | 第86页 |
| 4.2.2.3 在PMMA表面翻制锥形的表面微结构 | 第86-87页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第87-91页 |
| 4.3.1 岛状LB单层膜掩模板的构筑 | 第87页 |
| 4.3.2 KOH溶液的刻蚀 | 第87-88页 |
| 4.3.3 有结构的单晶硅表面抗反射性能测试 | 第88-90页 |
| 4.3.4 聚合物基底抗反射结构的构筑及抗反射性能测试 | 第90-91页 |
| 4.4 本章小结 | 第91-92页 |
| 参考文献 | 第92-95页 |
| 第5章 预结构调控DPPC条带结构的组装 | 第95-111页 |
| 5.1 引言 | 第95页 |
| 5.2 实验部分 | 第95-96页 |
| 5.2.1 试剂和仪器 | 第95-96页 |
| 5.2.2 实验过程 | 第96页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第96-106页 |
| 5.3.1 微米尺度有梯度的条带结构的形成及机理研究 | 第98-102页 |
| 5.3.1.1 有梯度的DPPC条带结构的形成 | 第98-99页 |
| 5.3.1.2 影响DPPC条带梯度的主要因素 | 第99-100页 |
| 5.3.1.3 有梯度的DPPC条带结构形成的机理研究 | 第100-102页 |
| 5.3.2 类蝴蝶翅膀微结构的形成及机理研究 | 第102-106页 |
| 5.3.2.1 类蝴蝶翅膀微结构的构筑 | 第102-105页 |
| 5.3.2.2 影响类蝴蝶翅膀微结构的条带弯曲角度的主要因素 | 第105页 |
| 5.3.2.3 类蝴蝶翅膀微结构的形成机理 | 第105-106页 |
| 5.4 本章小结 | 第106-108页 |
| 参考文献 | 第108-111页 |
| 攻读博士学位期间所发表的论文 | 第111-115页 |
| 作者简历 | 第115-117页 |
| 致谢 | 第117-118页 |
| 摘要 | 第118-121页 |
| Abstract | 第121-123页 |
