| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 文献综述 | 第8-24页 |
| 1.1 液晶 | 第8-11页 |
| 1.1.1 液晶简介和发展 | 第8-9页 |
| 1.1.2 液晶分类 | 第9-11页 |
| 1.1.2.1 溶致液晶 | 第9页 |
| 1.1.2.2 热致液晶 | 第9-11页 |
| 1.1.3 液晶高分子表征方法 | 第11页 |
| 1.2 高分子液晶概述 | 第11-17页 |
| 1.2.1 高分子液晶分类 | 第11-12页 |
| 1.2.2 侧链型液晶高分子研究进展 | 第12-16页 |
| 1.2.3 侧链型液晶高分子应用 | 第16-17页 |
| 1.3 SCLCPs相重入概述 | 第17-22页 |
| 1.3.1 尾接型液晶高分子相重入行为研究进展 | 第18-21页 |
| 1.3.2 甲壳型液晶高分子相重入行为研究进展 | 第21-22页 |
| 1.4 本论文课题的提出 | 第22-24页 |
| 第2章 烷氧尾链长度对侧链型液晶高分子相行为影响的研究 | 第24-47页 |
| 2.1 引言 | 第24-25页 |
| 2.2 实验部分 | 第25-32页 |
| 2.2.1 试剂部分 | 第25-26页 |
| 2.2.2 仪器和测试 | 第26-27页 |
| 2.2.3 单体及聚合物的制备 | 第27-32页 |
| 2.2.3.1 3,4,5-三辛氧基苯甲酸甲酯的合成 | 第27-28页 |
| 2.2.3.2 3,4,5-三辛氧基苯甲醇的合成 | 第28页 |
| 2.2.3.3 1-溴甲基-3,4,5-三辛氧基苯的合成 | 第28页 |
| 2.2.3.4 1-溴甲基-3,4,5-三辛氧基苯的膦盐的合成 | 第28-29页 |
| 2.2.3.5 单体 3,4,5-三辛氧基苯乙烯的合成 | 第29页 |
| 2.2.3.6 聚合物的合成 | 第29-30页 |
| 2.2.3.7 其余单体及聚合物的制备 | 第30-32页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第32-46页 |
| 2.3.1 单体的合成及结构表征 | 第32-34页 |
| 2.3.2 聚合物的合成及结构表征 | 第34-35页 |
| 2.3.3 单体TAVB-n的相行为研究 | 第35-38页 |
| 2.3.4 聚合物PTAVB-n的相行为研究 | 第38-46页 |
| 2.3.4.1 聚合物PTAVB-n的热稳定性研究 | 第38-39页 |
| 2.3.4.2 聚合物PTAVB-n的DSC研究 | 第39-40页 |
| 2.3.4.3 聚合物PTAVB-n的POM研究 | 第40-42页 |
| 2.3.4.4 聚合物PTAVB-n的 1D WAXD研究 | 第42-44页 |
| 2.3.4.5 烷氧尾链长度对PTAVB-n的相行为的影响 | 第44-46页 |
| 2.4 本章小结 | 第46-47页 |
| 第3章 烷氧尾链数目对侧链型液晶高分子相行为影响的研究 | 第47-61页 |
| 3.1 引言 | 第47-48页 |
| 3.2 实验部分 | 第48-51页 |
| 3.2.1 试剂部分 | 第48页 |
| 3.2.2 仪器和测试 | 第48页 |
| 3.2.3 单体及聚合物的制备 | 第48-51页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第51-60页 |
| 3.3.1 单体的结构表征 | 第51-53页 |
| 3.3.2 聚合物的结构表征 | 第53-54页 |
| 3.3.3 单体DAVB-n和AVB-n的相行为研究 | 第54-56页 |
| 3.3.4 聚合物PDAVB-n和PAVB-n的相行为研究 | 第56-59页 |
| 3.3.5 空间位阻效应对侧链型液晶高分子相行为的影响 | 第59-60页 |
| 3.4 本章小结 | 第60-61页 |
| 总结与展望 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
