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高速大功率半导体开关RSD的开通特性研究

摘要第4-5页
ABSTRACT第5页
1 绪 论第9-15页
    1.1 引 言第9-10页
    1.2 脉冲功率系统中开关元件的发展第10-11页
    1.3 新开通原理的半导体开关器件第11-14页
    1.4 本课题研究内容第14-15页
2 RSD的基本工作原理第15-28页
    2.1 引言第15-16页
    2.2 借助可控等离子层换流的原理第16-18页
    2.3 RSD的开通过程第18-23页
    2.4 RSD脉冲发生电路第23-27页
    2.5 小结第27-28页
3 RSD开通特性研究第28-51页
    3.1 预充电荷对RSD开通特性的影响第28-36页
    3.2 RSD开通电压特性研究第36-44页
    3.3 RSD的非均匀导通第44-48页
    3.4 RSD阴极短路点设计第48-50页
    3.5 小结第50-51页
4 RSD工艺实验研究第51-59页
    4.1 工艺流程第51-52页
    4.2 改进RSD特性的工艺措施第52-54页
    4.3 实验结果分析第54-56页
    4.4 RSD堆及芯片电参数第56-58页
    4.5 小结第58-59页
5 结 论第59-60页
致 谢第60-62页
参考文献第62-65页
附录1 攻读硕士学位期间发表的论文目录第65页

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