高速大功率半导体开关RSD的开通特性研究
摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5页 |
1 绪 论 | 第9-15页 |
1.1 引 言 | 第9-10页 |
1.2 脉冲功率系统中开关元件的发展 | 第10-11页 |
1.3 新开通原理的半导体开关器件 | 第11-14页 |
1.4 本课题研究内容 | 第14-15页 |
2 RSD的基本工作原理 | 第15-28页 |
2.1 引言 | 第15-16页 |
2.2 借助可控等离子层换流的原理 | 第16-18页 |
2.3 RSD的开通过程 | 第18-23页 |
2.4 RSD脉冲发生电路 | 第23-27页 |
2.5 小结 | 第27-28页 |
3 RSD开通特性研究 | 第28-51页 |
3.1 预充电荷对RSD开通特性的影响 | 第28-36页 |
3.2 RSD开通电压特性研究 | 第36-44页 |
3.3 RSD的非均匀导通 | 第44-48页 |
3.4 RSD阴极短路点设计 | 第48-50页 |
3.5 小结 | 第50-51页 |
4 RSD工艺实验研究 | 第51-59页 |
4.1 工艺流程 | 第51-52页 |
4.2 改进RSD特性的工艺措施 | 第52-54页 |
4.3 实验结果分析 | 第54-56页 |
4.4 RSD堆及芯片电参数 | 第56-58页 |
4.5 小结 | 第58-59页 |
5 结 论 | 第59-60页 |
致 谢 | 第60-62页 |
参考文献 | 第62-65页 |
附录1 攻读硕士学位期间发表的论文目录 | 第65页 |