| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-20页 |
| 1.1 课题的背景及意义 | 第8-9页 |
| 1.2 次级电子发射的理论基础 | 第9-11页 |
| 1.3 次级电子发射的应用及实用要求 | 第11-12页 |
| 1.4 文献综述与国内外研究现状 | 第12-18页 |
| 1.4.1 影响金属次级电子发射的主要因素 | 第12-13页 |
| 1.4.2 影响半导体与绝缘体次级电子发射的因素 | 第13-14页 |
| 1.4.3 磁控管中应用的有效的次级电子发射材料 | 第14-17页 |
| 1.4.4 现有次级电子发射相关的理论研究 | 第17-18页 |
| 1.5 本论文的研究目的及内容 | 第18-20页 |
| 第2章 稀土钼次级电子发射材料制备工艺的研究 | 第20-38页 |
| 2.1 材料的制备 | 第20-24页 |
| 2.1.1 各种粉末制备方法的特点及粉末的制备 | 第21-22页 |
| 2.1.2 放电等离子烧结 | 第22-23页 |
| 2.1.3 活化处理工艺 | 第23-24页 |
| 2.2 粉末性能研究 | 第24-26页 |
| 2.2.1 粉末物相成分分析 | 第24-25页 |
| 2.2.2 粉末颗粒形貌的SEM 分析 | 第25-26页 |
| 2.3 烧结体样品性能研究 | 第26-32页 |
| 2.3.1 烧结体样品的物相成分分析 | 第26-27页 |
| 2.3.2 表面金相分析 | 第27-28页 |
| 2.3.3 不同掺杂方法制备样品烧结体的表面形貌观察及能谱分析 | 第28-31页 |
| 2.3.4 烧结体表面显微硬度分析 | 第31页 |
| 2.3.5 烧结体样品断口形貌的SEM 分析 | 第31-32页 |
| 2.4 样品次级电子发射性能测试 | 第32-36页 |
| 2.4.1 实验原理 | 第32-33页 |
| 2.4.2 不同方法制备粉末的SPS 烧结体的次级电子发射性能 | 第33-34页 |
| 2.4.3 活化处理工艺对阴极次级电子发射性能的影响 | 第34-35页 |
| 2.4.4 不同温度SPS 烧结体的次级电子发射性能测试 | 第35-36页 |
| 2.5 本章小结 | 第36-38页 |
| 第3章 La_2O_3-Y_2O_3-Mo 系次级电子发射材料的研究 | 第38-56页 |
| 3.1 材料的制备 | 第39页 |
| 3.2 粉末性能的研究 | 第39-42页 |
| 3.2.1 粉末物相分析 | 第39-41页 |
| 3.2.2 颗粒形貌的SEM 分析 | 第41-42页 |
| 3.3 烧结体性能的研究 | 第42-47页 |
| 3.3.1 烧结体的XRD 分析 | 第42-43页 |
| 3.3.2 烧结体表面形貌及元素分布的SEM 分析 | 第43-45页 |
| 3.3.3 样品显微硬度 | 第45-46页 |
| 3.3.4 样品断口形貌SEM 分析 | 第46-47页 |
| 3.4 样品次级电子发射性能测试 | 第47-51页 |
| 3.4.1 不同样品的次级电子发射性能的比较 | 第47-48页 |
| 3.4.2 不同激活温度时的次级电子发射性能比较 | 第48-49页 |
| 3.4.3 样品测试后表面形貌及表面元素分布的分析 | 第49-51页 |
| 3.5 稀土氧化物复合行为研究 | 第51-55页 |
| 3.5.1 稀土氧化物复合行为 | 第51-54页 |
| 3.5.2 固溶现象对LaYMo 次级电子发射材料的影响 | 第54-55页 |
| 3.6 本章小结 | 第55-56页 |
| 第4章 CeO_2-Y_2O_3-Mo 系次级电子发射材料的研究 | 第56-70页 |
| 4.1 材料的制备 | 第56页 |
| 4.2 粉末性能研究 | 第56-60页 |
| 4.2.1 粉末物相成分分析 | 第56-58页 |
| 4.2.2 粉末的粒度分布 | 第58-59页 |
| 4.2.3 粉末颗粒形貌的SEM 分析 | 第59-60页 |
| 4.3 CeYMo 系烧结体样品性能研究 | 第60-67页 |
| 4.3.1 烧结体的物相成分分析 | 第60-62页 |
| 4.3.2 样品表面的金相分析 | 第62-63页 |
| 4.3.3 烧结体样品显微硬度分析 | 第63页 |
| 4.3.4 样品表面SEM 观察及EDS 分析 | 第63-65页 |
| 4.3.5 样品断口的SEM 及EDS 分析 | 第65-67页 |
| 4.4 样品次级电子发射性能的测试 | 第67-69页 |
| 4.5 本章小结 | 第69-70页 |
| 第5章 次级电子发射材料的热发射研究 | 第70-80页 |
| 5.1 阴极材料热电子发射性能测试的原理与测试方法 | 第70-73页 |
| 5.1.1 热电子发射性能测试的原理 | 第70-72页 |
| 5.1.2 热电子发射性能的测试设备及其方法 | 第72-73页 |
| 5.2 材料的制备 | 第73-74页 |
| 5.3 样品烧结体性能研究 | 第74-75页 |
| 5.3.1 烧结体物相成分分析 | 第74页 |
| 5.3.2 样品表面的显微硬度分析 | 第74-75页 |
| 5.4 样品发射性能测试 | 第75-79页 |
| 5.4.1 样品热发射性能测试 | 第75-77页 |
| 5.4.2 样品次级电子发射性能测试 | 第77-79页 |
| 5.5 本章小结 | 第79-80页 |
| 结论 | 第80-82页 |
| 参考文献 | 第82-86页 |
| 致谢 | 第86页 |
