摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-9页 |
第1章 前言 | 第14-16页 |
1.1 研究背景 | 第14页 |
1.2 研究目的 | 第14页 |
1.3 研究内容与创新点 | 第14-16页 |
第2章 文献综述 | 第16-32页 |
2.1 煤气甲烷化反应 | 第16页 |
2.2 甲烷化催化剂 | 第16-23页 |
2.2.1 活性组分 | 第17页 |
2.2.2 载体 | 第17-18页 |
2.2.3 助剂 | 第18页 |
2.2.4 制备方法 | 第18-20页 |
2.2.5 催化剂失活 | 第20-22页 |
2.2.6 甲烷化催化剂发展现状 | 第22-23页 |
2.3 甲烷化反应的机理及其动力学 | 第23-24页 |
2.3.1 甲烷化反应机理 | 第23-24页 |
2.3.2 反应动力学 | 第24页 |
2.4 甲烷化反应器及工艺 | 第24-28页 |
2.4.1 甲烷化反应器 | 第24-25页 |
2.4.2 甲烷化工艺 | 第25-28页 |
2.5 煤制天然气工业发展现状 | 第28-32页 |
2.5.1 国外情况 | 第28-29页 |
2.5.2 国内情况 | 第29-31页 |
2.5.3 影响因素 | 第31-32页 |
第3章 实验部分 | 第32-42页 |
3.1 催化剂制备 | 第32-34页 |
3.1.1 试剂 | 第32页 |
3.1.2 制备方法 | 第32-34页 |
3.2 催化剂性能评价 | 第34-40页 |
3.2.1 实验流程与设备 | 第34-36页 |
3.2.2 实验前准备 | 第36-37页 |
3.2.3 实验步骤及数据处理 | 第37-40页 |
3.3 催化剂表征 | 第40-42页 |
3.3.1 氮气低温吸附(N_2 adsorption-desorption) | 第40页 |
3.3.2 程序升温还原(H_2-TPR)和脱附(CO-TPD) | 第40-41页 |
3.3.3 多晶X射线衍射(XRD) | 第41页 |
3.3.4 高倍透射电镜(HRTEM、SAED及Mapping) | 第41页 |
3.3.5 X射线光电子能谱(XPS) | 第41页 |
3.3.6 热重(TG) | 第41-42页 |
第4章 燃烧法制备Ni/γ-Al_2O_3催化剂及其催化甲烷化性能研究 | 第42-56页 |
4.1 升温速率对低温催化性能的影响 | 第42-47页 |
4.1.1 采用不同的升温速率制备催化剂 | 第42页 |
4.1.2 N_2低温吸附 | 第42页 |
4.1.3 XRD | 第42-44页 |
4.1.4 H_2-TPR | 第44页 |
4.1.5 TEM | 第44页 |
4.1.6 低温催化活性评价 | 第44-47页 |
4.2 不同溶剂对低温催化性能的影响 | 第47-53页 |
4.2.1 采用不同溶剂制备催化剂 | 第47-48页 |
4.2.2 N_2低温吸附 | 第48页 |
4.2.3 XRD | 第48-50页 |
4.2.4 H_2-TPR | 第50页 |
4.2.5 TEM | 第50页 |
4.2.6 低温催化活性评价 | 第50-53页 |
4.3 E-2催化剂的高温催化性能评价 | 第53页 |
4.4 本章小结 | 第53-56页 |
第5章 Ti助剂及溶剂对催化剂性能的影响 | 第56-75页 |
5.1 溶剂对低温催化性能的影响 | 第56-61页 |
5.1.1 催化剂制备 | 第56页 |
5.1.2 N_2低温吸附 | 第56页 |
5.1.3 TEM | 第56-58页 |
5.1.4 CO-TPD | 第58-59页 |
5.1.5 低温催化活性评价 | 第59-61页 |
5.2 Ti助剂对低温催化性能的影响 | 第61-67页 |
5.2.1 催化剂制备 | 第61页 |
5.2.2 XRD | 第61-62页 |
5.2.3 H_2-TPR | 第62页 |
5.2.4 HRTEM,SAED及Mapping | 第62-63页 |
5.2.5 CO-TPD | 第63-64页 |
5.2.6 XPS | 第64-65页 |
5.2.7 低温催化活性评价 | 第65-67页 |
5.3 Ti含量对低温催化性能的影响 | 第67-70页 |
5.3.1 制备不同Ti含量的催化剂 | 第67页 |
5.3.2 XPS | 第67页 |
5.3.3 CO-TPD | 第67页 |
5.3.4 低温催化活性评价 | 第67-70页 |
5.4 高温催化性能评价 | 第70-73页 |
5.4.1 高温稳定性测试 | 第70-71页 |
5.4.2 N2低温吸附 | 第71-72页 |
5.4.3 XRD | 第72-73页 |
5.4.4 TG | 第73页 |
5.5 本章小结 | 第73-75页 |
第6章 Na助剂对催化剂性能的影响 | 第75-84页 |
6.1 Na助剂对低温催化性能的影响 | 第75-79页 |
6.1.1 催化剂制备 | 第75页 |
6.1.2 N_2低温吸附 | 第75页 |
6.1.3 XRD | 第75-76页 |
6.1.4 TEM | 第76-77页 |
6.1.5 H_2-TPR | 第77-79页 |
6.1.6 低温催化活性评价 | 第79页 |
6.2 Na助剂对高温催化性能的影响 | 第79-83页 |
6.3 本章小结 | 第83-84页 |
第7章 Ce助剂对催化剂性能的影响 | 第84-99页 |
7.1 Ce助剂对低温催化性能的影响 | 第84-93页 |
7.1.1 催化剂制备 | 第84页 |
7.1.2 N_2低温吸附 | 第84页 |
7.1.3 H_2-TPR | 第84-85页 |
7.1.4 XRD | 第85-86页 |
7.1.5 HRTEM | 第86-88页 |
7.1.6 低温催化活性评价 | 第88-92页 |
7.1.7 CO-TPD | 第92页 |
7.1.8 XPS | 第92-93页 |
7.2 Ce助剂对高温催化性能的影响 | 第93-95页 |
7.2.1 高温稳定性测试 | 第93页 |
7.2.2 XRD | 第93页 |
7.2.3 TG | 第93-95页 |
7.3 本章小结 | 第95-99页 |
第8章 Mg、Mn和La助剂对催化剂性能的影响 | 第99-105页 |
8.1 Mg、Mn和La助剂对低温催化性能的影响 | 第99-104页 |
8.1.1 催化剂制备 | 第99页 |
8.1.2 N_2低温吸附 | 第99页 |
8.1.3 XRD | 第99-101页 |
8.1.4 H_2-TPR | 第101页 |
8.1.5 TEM | 第101页 |
8.1.6 低温催化活性评价 | 第101-104页 |
8.2 高温催化性能评价 | 第104页 |
8.3 本章小结 | 第104-105页 |
第9章 结论与展望 | 第105-107页 |
9.1 催化剂制备条件优化 | 第105页 |
9.2 Ti助剂及溶剂对催化剂性能的影响 | 第105页 |
9.3 Na助剂对催化剂性能的影响 | 第105-106页 |
9.4 Ce助剂对催化剂性能的影响 | 第106页 |
9.5 Mg、Mn和La助剂对催化剂性能的影响 | 第106页 |
9.6 展望 | 第106-107页 |
参考文献 | 第107-116页 |
致谢 | 第116-117页 |
博士期间发表的主要论文 | 第117页 |