| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 1 绪论 | 第9-16页 |
| 1.1 课题背景 | 第9-10页 |
| 1.1.1 铌酸锂晶体的应用 | 第9-10页 |
| 1.1.2 课题的研究意义与来源 | 第10页 |
| 1.2 铌酸锂晶体的性质与结构 | 第10-14页 |
| 1.2.1 铌酸锂晶体的物理性质 | 第10-11页 |
| 1.2.2 铌酸锂晶体基本结构 | 第11-14页 |
| 1.2.3 铌酸锂晶体的生长 | 第14页 |
| 1.3 铌酸锂晶体的超精密加工现状 | 第14-15页 |
| 1.4 本文的主要研究内容 | 第15-16页 |
| 2 铌酸锂晶体纳米力学性能研究 | 第16-37页 |
| 2.1 纳米压痕实验与纳米划痕应用简介 | 第16-20页 |
| 2.1.1 纳米压痕实验理论与方法简介 | 第16-19页 |
| 2.1.2 纳米划痕理论与方法简介 | 第19-20页 |
| 2.2 铌酸锂晶体的纳米压痕实验 | 第20-27页 |
| 2.2.1 实验条件 | 第20-21页 |
| 2.2.2 压痕实验结果及讨论 | 第21-27页 |
| 2.3 铌酸锂晶体压痕实验Pop-in现象的分析 | 第27-32页 |
| 2.3.1 实验条件 | 第27页 |
| 2.3.2 实验结果 | 第27-28页 |
| 2.3.3 加载阶段的接触理论分析 | 第28-30页 |
| 2.3.4 弹塑性变形转变点的LN晶体内部应力情况 | 第30-32页 |
| 2.4 铌酸锂晶体的纳水划痕实验 | 第32-36页 |
| 2.4.1 实验条件 | 第32-33页 |
| 2.4.2 实验结果及讨论 | 第33-36页 |
| 2.5 本章小结 | 第36-37页 |
| 3 铌酸锂晶体化学机械抛光工艺参数选择 | 第37-48页 |
| 3.1 化学机械抛光简介 | 第37-38页 |
| 3.2 实验条件与方法 | 第38-41页 |
| 3.2.1 研磨抛光实验设备 | 第38页 |
| 3.2.2 LN晶体的加持方法 | 第38-39页 |
| 3.2.3 LN晶体样品的清洗和检测 | 第39-41页 |
| 3.3 抛光垫的选择 | 第41-45页 |
| 3.3.1 实验条件 | 第41-42页 |
| 3.3.2 实验结果 | 第42-45页 |
| 3.4 抛光工艺参数对材料去除率的影响 | 第45-47页 |
| 3.5 本章小结 | 第47-48页 |
| 4 铌酸锉晶体抛光液的化学作用研究 | 第48-60页 |
| 4.1 抛光液中磨粒、氧化剂、pH调节剂和络合剂的选择 | 第48-49页 |
| 4.2 磨粒粒径对材料去除率的影响 | 第49-50页 |
| 4.3 抛光液中各化学成分含量对材料去除率和表面质量的影响 | 第50-55页 |
| 4.3.1 抛光液pH值对材料去除率的影响 | 第51-52页 |
| 4.3.2 双氧水浓度对材料去除率的影响 | 第52-53页 |
| 4.3.3 磨粒浓度对材料去除率的影响 | 第53-54页 |
| 4.3.4 柠檬酸浓度对材料去除率和表面质量的影响 | 第54-55页 |
| 4.4 铌酸锉抛光液的加工效果 | 第55-57页 |
| 4.5 铌酸锉化学机械抛光材料去除分析 | 第57-59页 |
| 4.6 本章小结 | 第59-60页 |
| 5 提高铌酸锂晶片面形精度的加工工艺 | 第60-67页 |
| 5.1 机械抛光工艺对铌酸锂晶片面形的影响 | 第61-63页 |
| 5.1.1 实验条件 | 第61-62页 |
| 5.1.2 实验结果 | 第62-63页 |
| 5.2 化学机械抛光时间对铌酸锂晶片面形的影响 | 第63-64页 |
| 5.2.1 实验条件 | 第63页 |
| 5.2.2 实验结果 | 第63-64页 |
| 5.3 护环法机械抛光和化学机械抛光结合工艺 | 第64-66页 |
| 5.4 本章小结 | 第66-67页 |
| 结论 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-73页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
