摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 引言 | 第10-17页 |
1.1 选题依据及研究意义 | 第10-13页 |
1.1.1 铜合金的类别 | 第10-11页 |
1.1.2 铜合金的分析方法 | 第11-12页 |
1.1.3 XRF 分析方法 | 第12-13页 |
1.2 国内外研究现状 | 第13-15页 |
1.2.1 X 射线分析方法发展和现状 | 第13-15页 |
1.2.2 EDXRF 在有色金属分析中的应用 | 第15页 |
1.3 主要研究内容 | 第15-17页 |
第2章 理论基础 | 第17-30页 |
2.1 EDXRF 定性分析基础 | 第17-18页 |
2.2 EDXRF 定量分析基础 | 第18-19页 |
2.3 EDXRF 荧光强度的理论计算 | 第19-25页 |
2.3.1 一次荧光强度的计算 | 第20-22页 |
2.3.2 二次荧光强度的计算 | 第22-24页 |
2.3.3 特征 X 射线在仪器中产生的计数率 | 第24-25页 |
2.4 小波分析的理论基础 | 第25-30页 |
2.4.1 小波分析的由来 | 第25-27页 |
2.4.2 常用的小波函数 | 第27-30页 |
第3章 实验方案及仪器 | 第30-50页 |
3.1 实验仪器及其工作条件 | 第30-35页 |
3.2 仪器谱线的光滑 | 第35-41页 |
3.2.1 谱线光滑的经典方法 | 第36-37页 |
3.2.2 基于小波变换的谱线光滑 | 第37-38页 |
3.2.3 几种光滑方法的对比 | 第38-41页 |
3.3 重叠峰的解析 | 第41-46页 |
3.3.1 重叠峰解析的常用方法 | 第42-43页 |
3.3.2 小波变换法解析重叠峰 | 第43-46页 |
3.4 本底扣除 | 第46-50页 |
第4章 EDXRF 基体效应校正研究 | 第50-56页 |
4.1 基体效应校正的理论基础 | 第50页 |
4.2 基体效应校正的常用方法 | 第50-53页 |
4.3 R-α基本参数法 | 第53-56页 |
第5章 实验结果与分析 | 第56-66页 |
5.1 黄铜合金样品分析 | 第56-59页 |
5.1.1 简单黄铜合金中 Cu、Zn 含量的测定 | 第56-58页 |
5.1.2 镍黄铜合金中 Cu、Zn、Ni 含量的测定 | 第58-59页 |
5.2 白铜合金样品分析 | 第59-64页 |
5.2.1 简单白铜合金中 Cu、Ni、Co 含量的测定 | 第60-62页 |
5.2.2 锰白铜合金中 Cu、Ni、Co、Mn 含量的测定 | 第62-64页 |
5.3 锰青铜合金样品分析 | 第64-66页 |
结论 | 第66-67页 |
致谢 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-71页 |
攻读学位期间取得学术成果 | 第71页 |