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面向全光信号处理的半导体集成器件研究

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-8页
第一章 绪论第11-32页
    1.1 背景介绍第11-13页
    1.2 用于全光信号处理的半导体器件第13-14页
    1.3 MMI耦合器和基于MMI耦合器的波分复用/解复用器第14-19页
        1.3.1 MMI耦合器第15-17页
        1.3.2 基于MMI耦合器的波分复用/解复用器第17-19页
    1.4 全光模数转换器第19-24页
    1.5 本论文的主要研究内容第24-25页
    参考文献第25-32页
第二章 多模干涉耦合器的研究第32-63页
    2.1 多模干涉耦合器的工作原理第32-40页
        2.1.1 自镜像效应第32-35页
        2.1.2 普通干涉机制第35-37页
        2.1.3 受限干涉机制第37-39页
        2.1.4 MMI耦合器的主要性能指标第39-40页
    2.2 InP基3-dB MMI耦合器第40-58页
        2.2.1 理论设计及工艺制作第41-50页
        2.2.2 工艺容差分析第50-54页
        2.2.3 工艺制作第54-55页
        2.2.4 测试及分析第55-58页
    2.3 基于SOI的3-dB MMI耦合器第58-60页
    2.4 本章小结第60页
    参考文献第60-63页
第三章 基于边入射多模干涉耦合器的波分复用/解复用器研究第63-91页
    3.1 SP-MMI耦合器型1.31/1.55μm波分复用/解复用器的工作原理第63-67页
        3.1.1 SP-MMI耦合器第63-65页
        3.1.2 SP-MMI型1.31/1.55μm波分复用/解复用器的工作原理第65-67页
        3.1.3 1.31/1.55 m波分解复用器的主要性能指标第67页
    3.2 Si基深脊刻蚀结构SP-MMI型1.31/1.55μm波分复用/解复用器第67-78页
        3.2.1 器件结构设计第68-73页
        3.2.2 工艺制作第73-75页
        3.2.3 器件测试及结果分析第75-78页
    3.3 InP基1.31/1.55μm波分复用/解复用器第78-89页
        3.3.1 GI-MMI型非对称变脊宽输出结构1.31/1.55μm波分解复用器第79-85页
        3.3.2 SP-MMI型1.31/1.55μm波分复用/解复用器第85-89页
    3.4 本章小结第89-90页
    参考文献第90-91页
第四章 基于多模干涉耦合器的全光模数转换器第91-117页
    4.1 基于4×4MMI耦合器的全光模数转换器第91-99页
        4.1.1 工作原理介绍第91-94页
        4.1.2 量化精度扩展第94-99页
    4.2 性能分析第99-106页
        4.2.1 衡量全光ADC性能的主要参数指标第100-102页
        4.2.2 移相误差对系统性能的影响第102-104页
        4.2.3 耦合器功率分配系数不均匀性及采样脉冲幅度抖动对系统性能的影响第104-106页
        4.2.4 带宽分析第106页
    4.3 高位可扩展全光移相ADC第106-112页
        4.3.1 基于多波长脉冲源和MMI耦合器的全光移相ADC第107-110页
        4.3.2 基于强度调制器和MMI耦合器的全光移相ADC第110-112页
    4.4 4×4MMI耦合器芯片的工艺制作第112-114页
    4.5 本章小结第114页
    参考文献第114-117页
第五章 工作总结与展望第117-120页
    5.1 论文工作内容总结第117-118页
    5.2 论文工作展望第118-120页
缩写词索引第120-122页
攻读博士论文期间发表的学位论文和专利第122-123页
致谢第123页

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