摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
注释表 | 第12-13页 |
第一章 绪论 | 第13-21页 |
1.1 课题背景 | 第13-14页 |
1.2 电铸技术概论 | 第14-15页 |
1.2.1 电铸技术的基本原理 | 第14页 |
1.2.2 电铸的基本工艺过程 | 第14-15页 |
1.2.3 电铸技术的特点 | 第15页 |
1.3 电铸技术的研究与应用 | 第15-18页 |
1.3.1 电铸技术的研究进展 | 第15-17页 |
1.3.2 电铸技术的应用 | 第17-18页 |
1.4 电铸层均匀性的研究 | 第18-19页 |
1.5 课题的研究意义及主要内容 | 第19-21页 |
1.5.1 课题研究意义 | 第19页 |
1.5.2 本文研究主要内容 | 第19-21页 |
第二章 电铸技术相关理论 | 第21-30页 |
2.1 电化学基本原理 | 第21页 |
2.2 电沉积的基本理论 | 第21-23页 |
2.2.1 法拉第定律 | 第21-22页 |
2.2.2 电极/溶液界面双电层理论 | 第22页 |
2.2.3 电极极化 | 第22-23页 |
2.3 电铸阴极上的电流密度分布 | 第23-25页 |
2.4 电铸电场 | 第25-27页 |
2.4.1 电铸电场数学模型的建立 | 第25-26页 |
2.4.2 电铸电场有限元法求解 | 第26-27页 |
2.5 电铸中的流场 | 第27-28页 |
2.6 电铸阳极电极过程 | 第28-29页 |
2.6.1 阳极的电化学溶解和钝化 | 第28页 |
2.6.2 阳极的化学溶解 | 第28-29页 |
2.7 本章小结 | 第29-30页 |
第三章 薄壁凹凸结构电铸阳极优化设计 | 第30-40页 |
3.1 电铸阳极优化设计 | 第30-35页 |
3.1.1 阴阳极初始间距对阴极电场分布影响(以凸形结构电铸阳极为例) | 第30-32页 |
3.1.2 电铸阳极优化设计方案 | 第32-35页 |
3.2 薄壁凹凸结构电铸阳极设计实例 | 第35-39页 |
3.2.1 凹形结构电铸阳极优化设计 | 第35-36页 |
3.2.2 凸形结构电铸阳极优化设计 | 第36-37页 |
3.2.3 薄壁凹凸结构电铸阳极优化设计 | 第37-39页 |
3.3 本章小结 | 第39-40页 |
第四章 薄壁凹凸结构电铸均匀性试验研究 | 第40-54页 |
4.1 凹形结构和凸形结构电铸均匀性试验 | 第40-43页 |
4.1.1 试验装置设计 | 第40-42页 |
4.1.2 电铸试验过程 | 第42页 |
4.1.3 试验结果及讨论 | 第42-43页 |
4.2 薄壁凹凸结构电铸均匀性试验 | 第43-53页 |
4.2.1 试验工作原理 | 第43-44页 |
4.2.2 试验装置设计 | 第44-48页 |
4.2.3 电铸试验过程 | 第48-49页 |
4.2.4 试验结果及讨论 | 第49-53页 |
4.3 本章小结 | 第53-54页 |
第五章 利用离子膜电解槽补充镍离子基础试验研究 | 第54-67页 |
5.1 离子交换膜性质及其应用 | 第54-55页 |
5.1.1 离子交换膜的性质 | 第54页 |
5.1.2 离子交换膜的应用 | 第54-55页 |
5.2 离子膜电解槽电解镍试验研究 | 第55-63页 |
5.2.1 离子膜电解槽电解镍工作原理 | 第55-56页 |
5.2.2 离子膜电解槽电解镍试验装置 | 第56-58页 |
5.2.3 离子膜电解槽电解镍试验过程 | 第58-60页 |
5.2.4 离子膜电解槽电解镍试验结果分析 | 第60-63页 |
5.3 镍离子补充装置电沉积镍试验研究 | 第63-66页 |
5.3.1 满足电铸槽中镍离子浓度平衡的条件 | 第63页 |
5.3.2 镍离子补充装置整体结构 | 第63-64页 |
5.3.3 镍离子补充装置电铸镍试验过程 | 第64-65页 |
5.3.4 镍离子补充装置电铸镍试验结果分析 | 第65-66页 |
5.4 本章小结 | 第66-67页 |
第六章 总结与展望 | 第67-69页 |
6.1 论文工作总结 | 第67页 |
6.2 对未来工作的展望 | 第67-69页 |
参考文献 | 第69-74页 |
致谢 | 第74-75页 |
在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第75页 |