| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第11-39页 |
| 1.1 前言 | 第11-14页 |
| 1.2 AZO透明导电薄膜背景介绍 | 第14-20页 |
| 1.2.1 透明导电薄膜简介 | 第14-15页 |
| 1.2.2 ZnO的晶体结构及基本性质 | 第15-17页 |
| 1.2.3 ZnO的能带结构和本征缺陷 | 第17-19页 |
| 1.2.4 AZO薄膜的制备方法及应用 | 第19-20页 |
| 1.3 有机电致发光器件简介 | 第20-24页 |
| 1.3.1 有机电致发光器件的研究现状 | 第20-23页 |
| 1.3.2 OLED的结构和原理 | 第23-24页 |
| 1.4 AZO薄膜表面功函数调控的研究现状 | 第24-27页 |
| 1.5 本论文的研究意义和研究内容 | 第27-28页 |
| 1.6 本章小结 | 第28-30页 |
| 参考文献 | 第30-39页 |
| 第二章 等离子体浸没离子注入(PⅢ)理论及实验装置 | 第39-67页 |
| 2.1 PⅢ技术概述 | 第39-41页 |
| 2.2 PⅢ鞘层理论 | 第41-51页 |
| 2.2.1 德拜屏蔽 | 第42页 |
| 2.2.2 无碰撞鞘层模型 | 第42-47页 |
| 2.2.2.1 离子阵鞘层 | 第45-46页 |
| 2.2.2.2 蔡尔德定律鞘层 | 第46-47页 |
| 2.2.3 PⅢ鞘层演变过程 | 第47-48页 |
| 2.2.4 PⅢ离子注入剂量与注入深度 | 第48-51页 |
| 2.3 PⅢ实验装置 | 第51-61页 |
| 2.3.1 真空系统 | 第52-53页 |
| 2.3.2 等离子体源 | 第53-54页 |
| 2.3.3 负高压脉冲偏压源 | 第54-57页 |
| 2.3.4 手套箱超级净化系统 | 第57-58页 |
| 2.3.5 PⅢ的诊断设备 | 第58-61页 |
| 2.3.5.1 朗缪双探针 | 第58-60页 |
| 2.3.5.2 光谱仪 | 第60-61页 |
| 2.4 实验流程介绍 | 第61-63页 |
| 2.5 本章小结 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-67页 |
| 第三章 AZO薄膜表征手段及原理 | 第67-79页 |
| 3.1 开尔文探针 | 第67-69页 |
| 3.2 X射线光电子能谱 | 第69-71页 |
| 3.3 X射线衍射 | 第71-72页 |
| 3.4 原子力显微镜 | 第72-74页 |
| 3.5 紫外可见分光光度计 | 第74-75页 |
| 3.6 四探针测试仪 | 第75-76页 |
| 3.7 本章小结 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-79页 |
| 第四章 PⅢ参数对AZO薄膜表面功函数调控的影响 | 第79-119页 |
| 4.1 未经处理的AZO薄膜特性 | 第79-82页 |
| 4.1.1 AZO的晶体结构及表面形貌 | 第79-80页 |
| 4.1.2 AZO的电光学特性 | 第80-81页 |
| 4.1.3 AZO的表面化学成分 | 第81-82页 |
| 4.2 气体种类的影响 | 第82-87页 |
| 4.2.1 气体种类影响实验设计 | 第82-83页 |
| 4.2.2 气体种类影响实验的结果与讨论 | 第83-87页 |
| 4.2.2.1 不同气体对AZO薄膜表面功函数的影响 | 第83-84页 |
| 4.2.2.2 不同气体对AZO薄膜表面化学成分的影响 | 第84-86页 |
| 4.2.2.3 不同气体对AZO薄膜表面形貌的影响 | 第86-87页 |
| 4.2.3 气体种类影响小结 | 第87页 |
| 4.3 偏压大小的影响 | 第87-95页 |
| 4.3.1 偏压大小影响的实验设计 | 第87-88页 |
| 4.3.2 偏压大小影响实验的结果与讨论 | 第88-95页 |
| 4.3.2.1 不同偏压对AZO薄膜表面功函数的影响 | 第88-89页 |
| 4.3.2.2 不同偏压对AZO薄膜表而化学成分的影响 | 第89-90页 |
| 4.3.2.3 不同偏压对AZO薄膜电学性能的影响 | 第90-91页 |
| 4.3.2.4 不同偏压对AZO薄膜光学性能的影响 | 第91-92页 |
| 4.3.2.5 不同偏压对AZO薄膜晶体结构的影响 | 第92-93页 |
| 4.3.2.6 不同偏压对AZO薄膜表面形貌的影响 | 第93-95页 |
| 4.3.3 偏压大小影响小结 | 第95页 |
| 4.4 注入时长的影响 | 第95-105页 |
| 4.4.1 注入时长影响的实验设计 | 第95-96页 |
| 4.4.2 注入时长影响的结果与讨论 | 第96-104页 |
| 4.4.2.1 注入时长对AZO薄膜表面功函数的影响 | 第96-97页 |
| 4.4.2.2 注入时长对AZO薄膜表面化学成分的影响 | 第97-100页 |
| 4.4.2.3 注入时长对AZO薄膜电学性能的影响 | 第100-101页 |
| 4.4.2.4 注入时长对AZO薄膜光学性能的影响 | 第101页 |
| 4.4.2.5 注入时长对AZO薄膜晶体结构的影响 | 第101-103页 |
| 4.4.2.6 注入时长对AZO薄膜表面形貌的影响 | 第103-104页 |
| 4.4.3 注入时长影响小结 | 第104-105页 |
| 4.5 脉冲宽度的影响 | 第105-114页 |
| 4.5.1 脉冲宽度影响的实验设计 | 第105页 |
| 4.5.2 脉宽影响实验的结果与讨论 | 第105-114页 |
| 4.5.2.1 不同脉宽对AZO薄膜表面功函数的影响 | 第105-106页 |
| 4.5.2.2 不同脉宽对AZO薄膜表面化学成分的影响 | 第106-109页 |
| 4.5.2.3 不同脉宽对AZO薄膜电学性能的影响 | 第109-110页 |
| 4.5.2.4 不同脉宽对AZO薄膜光学性能的影响 | 第110-112页 |
| 4.5.2.5 不同脉宽对AZO薄膜晶体结构的影响 | 第112-113页 |
| 4.5.2.6 不同脉宽对AZO薄膜表面形貌的影响 | 第113-114页 |
| 4.5.3 脉宽宽度影响小结 | 第114页 |
| 4.6 本章小结 | 第114-116页 |
| 参考文献 | 第116-119页 |
| 第五章 AZO功函数变化机理及处理时效性研究 | 第119-135页 |
| 5.1 AZO功函数变化机理讨论 | 第119-125页 |
| 5.2 功函数的时效性研究 | 第125-129页 |
| 5.3 本章小结 | 第129-131页 |
| 参考文献 | 第131-135页 |
| 第六章 全文总结与展望 | 第135-139页 |
| 6.1 全文总结 | 第135-137页 |
| 6.2 未来工作展望 | 第137-139页 |
| 在校期间科研成果 | 第139-141页 |
| 致谢 | 第141-143页 |
