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边沿谱啁啾光栅特性优化问题的研究

摘要第3-5页
Abstract第5-6页
第1章 绪论第9-18页
    1.1 研究背景及意义第9-10页
    1.2 国内外研究现状及存在问题第10-16页
        1.2.1 国内外研究现状第10-15页
            1.2.1.1 边沿谱啁啾光栅的设计方法第10-13页
            1.2.1.2 线性啁啾相位掩模的曝光方法第13-15页
        1.2.2 存在的问题第15-16页
    1.3 研究目的及思路第16页
    1.4 论文结构安排第16-18页
第2章 边沿谱啁啾光栅的优化设计方法第18-39页
    2.1 边沿谱啁啾光栅的理论模型第18-24页
        2.1.1 线性啁啾光纤光栅的理论分析第18-23页
        2.1.2 边沿谱啁啾光栅的光谱特性第23-24页
    2.2 离散层剥法设计边沿谱啁啾光栅的误差分析第24-28页
    2.3 边沿谱啁啾光栅的优化设计方法第28-37页
        2.3.1 基于离散层剥法与交叉熵优化算法的优化设计方法第28-29页
        2.3.2 优化设计方法的设计流程第29-33页
        2.3.3 仿真结果及数值分析第33-37页
    2.4 本章小结第37-39页
第3章 线性啁啾相位掩模的曝光光路优化第39-51页
    3.1 线性啁啾相位掩模的衍射特性第39-40页
    3.2 线性啁啾相位掩模的曝光光路优化设计第40-42页
    3.3 曝光光路的数学模型和参数的数值分析第42-49页
        3.3.1 曝光光路的数学模型第42-46页
        3.3.2 曝光光路参数的数值分析第46-49页
    3.4 本章小结第49-51页
第4章 总结第51-53页
参考文献第53-56页

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