| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 过渡族金属氮化物薄膜的制备方法 | 第11-15页 |
| 1.2.1 磁控溅射 | 第11-13页 |
| 1.2.2 化学气相沉积 | 第13页 |
| 1.2.3 离子注入技术 | 第13-14页 |
| 1.2.4 离子束辅助沉积 | 第14-15页 |
| 1.3 过渡族金属氮化物薄膜的结构 | 第15-17页 |
| 1.4 过渡族金属氮化物薄膜的电学性质及改善方法 | 第17-20页 |
| 1.5 过渡族金属氮化物薄膜的摩擦磨损性质及改善方法 | 第20-23页 |
| 1.6 研究依据与主要内容 | 第23-25页 |
| 第二章 氮化铪钽和氮化铪银薄膜的制备与表征 | 第25-31页 |
| 2.1 样品的制备 | 第25-27页 |
| 2.1.1 Hf-Ta-N薄膜的制备 | 第25-26页 |
| 2.1.2 Hf-Ag-N薄膜的制备 | 第26-27页 |
| 2.2 样品的表征与测试 | 第27-31页 |
| 2.2.1 结构表征 | 第27-28页 |
| 2.2.2 性能表征 | 第28-31页 |
| 第三章 钽引入对氮化铪薄膜结构、电学及摩擦磨损性质的影响 | 第31-43页 |
| 3.1 引言 | 第31页 |
| 3.2 Ta引入对HfN薄膜的成分及结构的影响 | 第31-34页 |
| 3.2.1 Hf-Ta-N薄膜的成分 | 第31-32页 |
| 3.2.2 Hf-Ta-N薄膜的结构 | 第32-34页 |
| 3.3 Hf-Ta-N薄膜电导率的演变及物理机制 | 第34-35页 |
| 3.4 Hf-Ta-N薄膜摩擦磨损性质及物理机制 | 第35-41页 |
| 3.5 本章小结 | 第41-43页 |
| 第四章 银引入对氮化铪薄膜结构、电学及摩擦磨损性质的影响 | 第43-53页 |
| 4.1 引言 | 第43页 |
| 4.2 Ag引入对HfN薄膜成分及结构的影响 | 第43-45页 |
| 4.2.1 Hf-Ag-N薄膜的成分 | 第43-44页 |
| 4.2.2 Hf-Ag-N薄膜的结构 | 第44-45页 |
| 4.3 Ag含量对HfN薄膜电导率的影响 | 第45-46页 |
| 4.4 Ag含量对HfN薄膜摩擦磨损性能的影响 | 第46-50页 |
| 4.5 Hf-Ag-N与Hf-Ta-N薄膜性质的对比 | 第50-52页 |
| 4.6 本章小结 | 第52-53页 |
| 第五章 结论 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-69页 |
| 硕士期间所获科研成果 | 第69-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
