| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 中红外波段光学天线调谐功能研究背景 | 第10-14页 |
| 1.2.1 光学天线概念和研究背景 | 第10-11页 |
| 1.2.2 光学天线在中红外波段的研究背景 | 第11-12页 |
| 1.2.3 光学天线动态调谐功能研究背景 | 第12-14页 |
| 1.3 氧化钒调谐红外光学天线 | 第14-17页 |
| 1.3.1 氧化钒在红外波段的应用背景 | 第14-15页 |
| 1.3.2 氧化钒调谐红外光学天线国外发展现状 | 第15-16页 |
| 1.3.3 氧化钒调谐红外光学天线国内发展现状 | 第16-17页 |
| 1.4 本论文的研究意义和主要内容 | 第17-21页 |
| 1.4.1 本论文的工作内容 | 第17-18页 |
| 1.4.2 本论文的研究可行性 | 第18-20页 |
| 1.4.3 论文创新性与研究意义 | 第20-21页 |
| 第二章 二氧化钒中红外温控调谐光学天线的设计原理 | 第21-32页 |
| 2.1 光学天线原理介绍 | 第21-25页 |
| 2.1.1 表面等离子体耦合机理 | 第21-23页 |
| 2.1.2 圆盘天线理论及调谐机理 | 第23-25页 |
| 2.2 二氧化钒材料相变特性 | 第25-31页 |
| 2.2.1 氧化钒材料相变现象 | 第25-26页 |
| 2.2.2 二氧化钒相变的晶体学理论 | 第26-27页 |
| 2.2.3 二氧化钒相变的能带理论 | 第27-29页 |
| 2.2.4 二氧化钒相变原理 | 第29-31页 |
| 2.3 本章小结 | 第31-32页 |
| 第三章 二氧化钒中红外光学天线仿真模型设计 | 第32-50页 |
| 3.1 有限元设计方法与仿真工具 | 第32-33页 |
| 3.2 天线仿真模型的基本结构设计 | 第33-35页 |
| 3.3 仿真模型中材料光学参数的选取 | 第35-40页 |
| 3.3.1 金属材料Drude色散模型 | 第35-38页 |
| 3.3.2 二氧化钒相变材料光学参数的描述 | 第38-40页 |
| 3.4 天线尺寸设计及调谐功能仿真 | 第40-48页 |
| 3.4.1 正入射与 15°入射角情况下天线模型响应对比 | 第40-41页 |
| 3.4.2 吸收峰场图模式分析 | 第41-42页 |
| 3.4.3 天线尺寸效应与静态调谐 | 第42-47页 |
| 3.4.4 天线温控调谐效应 | 第47-48页 |
| 3.5 本章小结 | 第48-50页 |
| 第四章 天线样品实验制备过程 | 第50-59页 |
| 4.1 实验流程简述 | 第50-51页 |
| 4.2 实验工艺及具体过程 | 第51-58页 |
| 4.2.1 电子束蒸发沉积金属 | 第51-52页 |
| 4.2.2 等离子增强化学气相沉积（PECVD）制备二氧化硅薄膜 | 第52-53页 |
| 4.2.3 磁控溅射沉积二氧化钒薄膜 | 第53-54页 |
| 4.2.4 光刻工艺及剥离制备金属圆盘阵列 | 第54-58页 |
| 4.3 本章小结 | 第58-59页 |
| 第五章 天线样品测试与分析 | 第59-73页 |
| 5.1 天线调谐功能测试 | 第59-67页 |
| 5.1.1 测试原理及设备 | 第59-60页 |
| 5.1.2 天线样品吸收效应及其分析 | 第60-62页 |
| 5.1.3 温控调谐效应的测试及分析 | 第62-67页 |
| 5.2 天线样品材料性质分析 | 第67-72页 |
| 5.2.1 扫描电子显微镜（SEM）测试 | 第67-68页 |
| 5.2.2 X射线衍射分析（XRD） | 第68-70页 |
| 5.2.3 X射线光电子能谱（XPS） | 第70-72页 |
| 5.3 本章小结 | 第72-73页 |
| 第六章 总结与展望 | 第73-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-83页 |
| 在学期间取得的研究成果 | 第83-84页 |