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高Q值回音壁模式光学微腔研究与实现

摘要第3-5页
ABSTRACT第5-7页
第一章 绪论第11-23页
    1.1 引言第11-14页
    1.2 回音壁模式微谐振腔简介第14-16页
    1.3 回音壁模式微谐振腔应用第16-20页
        1.3.1 高灵敏度光学传感器第16-18页
        1.3.2 低阈值激光器第18-19页
        1.3.3 光通信器件第19-20页
    1.4 微腔高Q值的必要性第20页
    1.5 本论文的主要工作及研究意义第20-23页
第二章 回音壁模式光学微谐振腔基本理论第23-35页
    2.1 回音壁模式微谐振腔模式分析第23-25页
        2.1.1 回音壁模式的几何光学分析第23-24页
        2.1.2 回音壁模式电磁场理论分析第24-25页
    2.2 回音壁模式微谐振腔主要特征参量第25-29页
        2.2.1 模式体积第25-26页
        2.2.2 谐振波长第26-27页
        2.2.3 品质因子第27页
        2.2.4 自由光谱范围与精细度第27-29页
    2.3 回音壁模式谐振腔耦合理论第29-34页
        2.3.1 回音壁模式微腔耦合方式简介第29-32页
        2.3.2 锥形光纤与球形微腔耦合理论分析第32-34页
    2.4 本章小结第34-35页
第三章 SOI环形波导谐振腔表面粗糙度建模与分析第35-53页
    3.1 光波导传输损耗分析第35-41页
        3.1.1 光波导辐射损耗第35-38页
        3.1.2 光波导吸收损耗第38-39页
        3.1.3 光波导散射损耗第39-41页
    3.2 光波导表面粗糙度及其建模方法第41-44页
        3.2.1 光波导表面粗糙度概念第41-42页
        3.2.2 光波导表面粗糙度建模第42-44页
    3.3 表面粗糙度对波导及谐振腔特性影响分析第44-51页
        3.3.1 表面粗糙度对直波导传输损耗影响分析第44-48页
        3.3.2 表面粗糙度对谐振腔谐振特性影响分析第48-50页
        3.3.3 光波导谐振腔仿真结果实验验证第50-51页
    3.4 本章小结第51-53页
第四章 SOI光波导表面形貌表征及氢退火工艺研究第53-65页
    4.1 SOI纳米光波导表面形貌表征方法第53-58页
    4.2 SOI纳米光波导表面后处理光滑化工艺第58-61页
        4.2.1 热氧化光滑工艺第58-59页
        4.2.2 氢退火光滑工艺第59-60页
        4.2.3 其他光滑化处理工艺第60-61页
    4.3 SOI光波导氢退火光滑化机理及实验研究第61-64页
        4.3.1 光波导氢退火光滑化机理研究第61-62页
        4.3.2 光波导氢退火实验第62-64页
    4.4、本章小结第64-65页
第五章 空心光纤微泡谐振腔制备与特性测试第65-75页
    5.1 光纤微泡谐振腔制备技术简介第65-66页
    5.2 光纤微泡腔膨胀辅助电弧放电方法制备流程第66-71页
    5.3 微泡腔谐振特性测试第71-74页
        5.3.1 拉锥光纤制备第72-73页
        5.3.2 微泡腔谐振特性测试第73-74页
    5.4 总结第74-75页
第六章 微泡光学谐振腔力学特性分析及其传感应用第75-85页
    6.1 空心微泡腔力学特性Ansys分析第75-77页
    6.2 基于FP干涉的球形微泡应变实验测试第77-81页
        6.2.1 球形微泡FP干涉实验结果第78-80页
        6.2.2 蛋形微泡FP干涉实验结果第80-81页
    6.3 基于锥形光纤耦合实验测试系统第81-82页
    6.4 本章小结第82-85页
第七章 总结与展望第85-89页
参考文献第89-105页
致谢第105-107页
科研成果第107页

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