| 中文摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-20页 |
| ·研究现状 | 第10-12页 |
| ·高温超导薄膜应用前景 | 第12-13页 |
| ·超导电性的基本特征 | 第13-15页 |
| ·晶体结构 | 第15-16页 |
| ·研究内容 | 第16-17页 |
| ·研究的意义 | 第17-18页 |
| 参考文献 | 第18-20页 |
| 第二章 YBCO 薄膜表征与制备方法 | 第20-30页 |
| ·实验仪器简介 | 第20-25页 |
| ·脉冲激光沉积-PLD | 第20-21页 |
| ·X 射线衍射-XRD | 第21-22页 |
| ·扫描电子显微镜-SEM | 第22-23页 |
| ·原子力显微镜-AFM | 第23-24页 |
| ·台阶仪 | 第24页 |
| ·物性测量系统-PPMS | 第24-25页 |
| ·PLD 薄膜制备方法 | 第25-27页 |
| ·其他几种制备方法 | 第27-28页 |
| ·金属有机化学气相沉积(MOCVD) | 第27页 |
| ·多元共蒸发(Co－Evaporation) | 第27页 |
| ·溅射(Sputtering) | 第27-28页 |
| 参考文献 | 第28-30页 |
| 第三章 通过网格掩模技术消除 YBCO 薄膜中的大颗粒现象 | 第30-39页 |
| ·简介 | 第30-32页 |
| ·颗粒形成的原因 | 第30-31页 |
| ·大颗粒消除的研究进展 | 第31-32页 |
| ·实验过程 | 第32页 |
| ·实验结果和讨论 | 第32-38页 |
| ·本章小结 | 第38页 |
| 参考文献 | 第38-39页 |
| 第四章 不同单晶基片上外延生长 YBCO 薄膜的择优取向研究 | 第39-58页 |
| ·简介 | 第39页 |
| ·实验过程 | 第39-41页 |
| ·靶材的选择 | 第39-40页 |
| ·基片的清洗 | 第40页 |
| ·薄膜的制备 | 第40-41页 |
| ·实验结果与讨论 | 第41-56页 |
| ·YBCO 在氧化镁基片上生长 | 第41-46页 |
| ·YBCO 在钛酸锶基片上生长 | 第46-51页 |
| ·YBCO 在硅基片上生长 | 第51-53页 |
| ·三种基片生长情况的比较 | 第53-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-58页 |
| 第五章 总结 | 第58-60页 |
| ·本文讨论的主要内容 | 第58页 |
| ·存在的问题 | 第58-60页 |
| 攻读硕士期间公开发表的论文 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |