摘要 | 第5-7页 |
ABSTRACT | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第11-32页 |
1.1 引言 | 第11页 |
1.2 铝化物高温涂层 | 第11-22页 |
1.2.1 活性元素对铝化物涂层氧化行为的影响 | 第12-21页 |
1.2.2 晶粒细化对铝化物涂层氧化行为的影响 | 第21-22页 |
1.3 SmCo基高温磁体 | 第22-30页 |
1.3.1 SmCo基磁体的制备结构以及性能 | 第23-25页 |
1.3.2 2:17型SmCo基磁体的高温退磁现象 | 第25-30页 |
1.4 本论文研究内容和意义 | 第30-32页 |
第二章 实验原理和方法 | 第32-41页 |
2.1 样品制备 | 第32-35页 |
2.1.1 CeO_2弥散的Ni_2Al_3涂层 | 第32-34页 |
2.1.2 Sm(Co_(bal)Fe_(0.22)Cu_(0.08)Zr_(0.02))_(7.5)高温永磁体 | 第34-35页 |
2.2 初期氧化实验 | 第35-36页 |
2.3 结构表征与成分分析 | 第36-41页 |
2.3.1 透射电子显微镜以及样品制备 | 第36-40页 |
2.3.2 其它的结构表征以及成分分析手段 | 第40-41页 |
第三章 CeO_2影响Ni_2Al_3涂层的氧化机制 | 第41-65页 |
3.1 前言 | 第41-42页 |
3.2 实验方法 | 第42页 |
3.3 实验结果 | 第42-60页 |
3.3.1 氧化前Ni_2Al_3和弥散CeO_2的TEM表征 | 第42-46页 |
3.3.2 Al_2O_3膜结构以及Ce在其中分布的TEM表征 | 第46-60页 |
3.4 分析与讨论 | 第60-64页 |
3.4.1 CeO_2在涂层至Al_2O_3膜中的演化 | 第60-62页 |
3.4.2 CeO_2产生REE的模型解释 | 第62-64页 |
3.5 小结 | 第64-65页 |
第四章 晶粒细化对Ni_2Al_3热生长Al_2O_3膜相转变的影响 | 第65-78页 |
4.1 前言 | 第65-66页 |
4.2 实验方法 | 第66-67页 |
4.3 结果与讨论 | 第67-76页 |
4.3.1 晶粒细化对Ni_2Al_3热生长Al_2O_3膜结构和组成的影响 | 第67-75页 |
4.3.2 晶粒细化影响Al_2O_3膜相转变的机制 | 第75-76页 |
4.4 小结 | 第76-78页 |
第五章 Sm(CO_(bal)Fe_(0.22)Cu_(0.08)Zr_(0.0)2)_(7.5)永磁体的初期氧化行为 | 第78-97页 |
5.1 前言 | 第78-79页 |
5.2 实验方法 | 第79-80页 |
5.3 实验结果 | 第80-93页 |
5.3.1 Sm(Co_(bal)Fe_(0.22)Cu_(0.08)Zr_(0.0)2)_(7.5)的微观结构 | 第80-83页 |
5.3.2 初期氧化外氧化膜的TEM研究 | 第83-88页 |
5.3.3 初期氧化内氧化区的TEM研究 | 第88-91页 |
5.3.4 磁性能测试 | 第91-93页 |
5.4 分析与讨论 | 第93-96页 |
5.4.1 Sm(Co_(bal)Fe_(0.22)Cu_(0.08)Zr_(0.0)2)_(7.5)外氧化与内氧化的氧化机制 | 第93-95页 |
5.4.2 氧化与磁性能退化的关系 | 第95-96页 |
5.5 小结 | 第96-97页 |
第六章 总结论 | 第97-99页 |
参考文献 | 第99-113页 |
致谢 | 第113-114页 |
在读期间发表的学术论文与取得的研究成果 | 第114页 |