光栅共振耦合中的共振特征与谱对称性研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 1 绪论 | 第10-19页 |
| ·衍射光学概述 | 第10-11页 |
| ·亚波长光栅的原理与应用 | 第11-13页 |
| ·导模共振滤光片中谱线对称性的研究进展 | 第13-14页 |
| ·Fano共振的研究进展 | 第14-15页 |
| ·Fano共振产生原理 | 第15-17页 |
| ·本文研究的内容 | 第17-19页 |
| 2 导模共振理论模型 | 第19-25页 |
| ·导模共振的基本原理 | 第19-22页 |
| ·导模共振效应 | 第19-21页 |
| ·模耦合理论 | 第21-22页 |
| ·双模干涉模型简介 | 第22-23页 |
| ·双模干涉模型能量耦合的特点 | 第23页 |
| ·本章小结 | 第23-25页 |
| 3 竖直耦合共振模型 | 第25-29页 |
| ·竖直耦合共振简介 | 第25-26页 |
| ·竖直耦合共振模型的Fano共振解释 | 第26-27页 |
| ·竖直耦合共振模型的影响因素 | 第27页 |
| ·本章小结 | 第27-29页 |
| 4 理论分析反射谱对称性 | 第29-37页 |
| ·反射谱对称性验证方案 | 第29页 |
| ·验证与模拟 | 第29-35页 |
| ·结构设计及模拟参数设计 | 第29-32页 |
| ·数值模拟与讨论 | 第32-35页 |
| ·本章小结 | 第35-37页 |
| 5 亚波长光栅的制备 | 第37-47页 |
| ·镀膜工艺 | 第37-40页 |
| ·低压化学气相沉积（LPCVD） | 第37-38页 |
| ·感应耦合等离子体化学气相沉积（ICPCVD） | 第38-39页 |
| ·等离子体增强化学气相沉积（PECVD） | 第39-40页 |
| ·光刻工艺 | 第40-41页 |
| ·刻蚀工艺 | 第41-42页 |
| ·制备步骤 | 第42-43页 |
| ·样品展示与表征 | 第43-44页 |
| ·测试与分析 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 6 总结与展望 | 第47-49页 |
| ·总结 | 第47-48页 |
| ·展望 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-56页 |
| 附录A：作者攻读硕士学位期间发表论文及科研情况 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57页 |
