摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-10页 |
第一章 引言 | 第10-28页 |
·超导物理发展简介 | 第10-13页 |
·百年超导回顾 | 第10-13页 |
·超导微观机理 | 第13页 |
·BiS_2基超导体的发现和研究概况 | 第13-20页 |
·Bi_4O_4S_3 | 第14-16页 |
·LnO_(1-x)F_xBiS_2 | 第16-18页 |
·SrFBiS_2/EuFBiS_2 | 第18-20页 |
·BiS_2基超导体压力效应的研究简介 | 第20-21页 |
·小结 | 第21-23页 |
参考文献 | 第23-28页 |
第二章 高压技术与劳厄单晶定向 | 第28-42页 |
·高压简介及对超导物理的意义 | 第28-29页 |
·高压技术 | 第29-33页 |
·活塞圆筒型装置 | 第30页 |
·金刚石对顶砧 | 第30-32页 |
·压力标定 | 第32-33页 |
·单晶定向 | 第33-39页 |
·X射线衍射基础 | 第34-36页 |
·劳厄照相法 | 第36-39页 |
·小结 | 第39-40页 |
参考文献 | 第40-42页 |
第三章 NdO_(1-x)F_xBiS_2超导体单晶中巨大的超导涨落和反常正常态行为 | 第42-57页 |
·引言 | 第42页 |
·单晶样品制备 | 第42-43页 |
·实验测量和结果 | 第43-51页 |
·样品特征和各向异性 | 第43-47页 |
·超导涨落现象 | 第47-50页 |
·STM结果 | 第50-51页 |
·分析讨论 | 第51-52页 |
·小结 | 第52-54页 |
参考文献 | 第54-57页 |
第四章 高压调制LaO_(0.5)F_(0.5)BiSe_2单晶超导转变温度与正常态 | 第57-70页 |
·引言 | 第57-58页 |
·单晶生长及实验简介 | 第58-60页 |
·实验结果与讨论 | 第60-66页 |
·小结 | 第66-67页 |
参考文献 | 第67-70页 |
第五章 (Li_(1-x)Fe_x)OHFeSe压力效应的研究 | 第70-81页 |
·引言 | 第70-71页 |
·样品制备及实验简介 | 第71页 |
·数据采集及结果分析 | 第71-76页 |
·小结 | 第76-77页 |
参考文献 | 第77-81页 |
第六章 全文总结 | 第81-83页 |
发表论文 | 第83-85页 |
致谢 | 第85-86页 |