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BiS2基超导体单晶生长和输运性质的研究

摘要第1-6页
Abstract第6-10页
第一章 引言第10-28页
   ·超导物理发展简介第10-13页
     ·百年超导回顾第10-13页
     ·超导微观机理第13页
   ·BiS_2基超导体的发现和研究概况第13-20页
     ·Bi_4O_4S_3第14-16页
     ·LnO_(1-x)F_xBiS_2第16-18页
     ·SrFBiS_2/EuFBiS_2第18-20页
   ·BiS_2基超导体压力效应的研究简介第20-21页
   ·小结第21-23页
 参考文献第23-28页
第二章 高压技术与劳厄单晶定向第28-42页
   ·高压简介及对超导物理的意义第28-29页
   ·高压技术第29-33页
     ·活塞圆筒型装置第30页
     ·金刚石对顶砧第30-32页
     ·压力标定第32-33页
   ·单晶定向第33-39页
     ·X射线衍射基础第34-36页
     ·劳厄照相法第36-39页
   ·小结第39-40页
 参考文献第40-42页
第三章 NdO_(1-x)F_xBiS_2超导体单晶中巨大的超导涨落和反常正常态行为第42-57页
   ·引言第42页
   ·单晶样品制备第42-43页
   ·实验测量和结果第43-51页
     ·样品特征和各向异性第43-47页
     ·超导涨落现象第47-50页
     ·STM结果第50-51页
   ·分析讨论第51-52页
   ·小结第52-54页
 参考文献第54-57页
第四章 高压调制LaO_(0.5)F_(0.5)BiSe_2单晶超导转变温度与正常态第57-70页
   ·引言第57-58页
   ·单晶生长及实验简介第58-60页
   ·实验结果与讨论第60-66页
   ·小结第66-67页
 参考文献第67-70页
第五章 (Li_(1-x)Fe_x)OHFeSe压力效应的研究第70-81页
   ·引言第70-71页
   ·样品制备及实验简介第71页
   ·数据采集及结果分析第71-76页
   ·小结第76-77页
 参考文献第77-81页
第六章 全文总结第81-83页
发表论文第83-85页
致谢第85-86页

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