| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-40页 |
| ·衍射极限和人工电磁材料 | 第12-19页 |
| ·衍射极限 | 第12-14页 |
| ·人工电磁材料简介 | 第14-19页 |
| ·超分辨成像技术研究进展 | 第19-32页 |
| ·平板人工电磁材料透镜 | 第19-21页 |
| ·远场超分辨成像技术 | 第21-30页 |
| ·微米小球超分辨成像技术 | 第30-31页 |
| ·超振荡亚波成像技术 | 第31-32页 |
| ·超分辨光刻技术研究进展 | 第32-37页 |
| ·超透镜光刻技术 | 第33-35页 |
| ·表面等离子体干涉光刻技术 | 第35-37页 |
| ·本文的研究意义及章节安排 | 第37-40页 |
| 第2章 表面等离子体基础和数值计算 | 第40-56页 |
| ·表面等离子体的经典电磁场理论 | 第40-47页 |
| ·金属材料色散和色散模型 | 第40-42页 |
| ·金属表面等离子体 | 第42-44页 |
| ·金属表面等离子体波的激励 | 第44-45页 |
| ·金属局域表面等离子体共振 | 第45-47页 |
| ·电磁场的数值计算方法 | 第47-55页 |
| ·转移矩阵 | 第48-50页 |
| ·超越方程的数值求根方法 | 第50-52页 |
| ·时域有限差分算法 | 第52-54页 |
| ·有限元法 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第3章 可调谐超透镜设计及其性能分析 | 第56-86页 |
| ·引言 | 第56-57页 |
| ·平板金属/介质薄膜的SP模式分析 | 第57-70页 |
| ·平板金属薄膜 | 第58-63页 |
| ·IMI结构 | 第63-68页 |
| ·光学传递函数和SP模式 | 第68-70页 |
| ·可调谐超透镜设计及其性能分析 | 第70-84页 |
| ·可调谐超透镜结构设计 | 第70-73页 |
| ·可调谐超透镜成像性能分析 | 第73-81页 |
| ·系统参数对成像质量的影响 | 第81-83页 |
| ·非对称IMI结构的成像性能 | 第83-84页 |
| ·本章小结 | 第84-86页 |
| 第4章 基于MIM结构表面等离子体干涉的亚波长光刻研究 | 第86-100页 |
| ·可调谐亚波长光刻元件的结构和原理 | 第87-88页 |
| ·数值结果分析 | 第88-98页 |
| ·SP波长和光刻分辨率 | 第89-90页 |
| ·SP损耗和曝光均匀性 | 第90-97页 |
| ·Fabry-Perot共振和光强 | 第97-98页 |
| ·掩模板误差对光刻质量影响 | 第98-99页 |
| ·本章小结 | 第99-100页 |
| 第5章 结论与展望 | 第100-102页 |
| 参考文献 | 第102-112页 |
| 在学期间学术成果情况 | 第112-114页 |
| 指导教师及作者简介 | 第114-116页 |
| 致谢 | 第116页 |