摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-12页 |
第一章 绪论 | 第12-29页 |
第一节 引言 | 第12-14页 |
第二节 石墨烯的制备方法及其表征技术 | 第14-23页 |
·简述石墨烯的三类制备方法 | 第14-20页 |
·简述石墨烯结构的表征方法 | 第20-23页 |
第三节 石墨烯在光电子器件上的应用 | 第23-27页 |
·石墨烯透明电极 | 第23页 |
·石墨烯非线性光学器件 | 第23-24页 |
·石墨烯场效应晶体管 | 第24-26页 |
·石墨烯光电探测器 | 第26-27页 |
第四节 本论文的主要内容与研究意义 | 第27-29页 |
第二章 透射下应力对石墨烯光学性质的调控 | 第29-43页 |
第一节 应力调控下石墨烯的带宽和拉曼光谱 | 第29-33页 |
·应力调控打开石墨烯带隙 | 第29-31页 |
·应力调控下石墨烯的拉曼光谱 | 第31-33页 |
第二节 应力调控石墨烯光学性质的理论分析 | 第33-37页 |
·应力引起的石墨烯各向异性 | 第33-34页 |
·应力调控下石墨烯的电导系数 | 第34-36页 |
·应力调控下石墨烯的光学透射率 | 第36-37页 |
第三节 透射下应力对大面积CVD石墨烯透射率的调控 | 第37-41页 |
·拉伸石墨烯的方法以及光路设计 | 第38-40页 |
·实验结果分析 | 第40-41页 |
第四节 小结 | 第41-43页 |
第三章 全内反射结构下石墨烯的光学吸收率 | 第43-51页 |
第一节 光透过多层介质的理论分析 | 第43-47页 |
·多层介质结构(N>3) | 第43-46页 |
·三层介质结构 | 第46-47页 |
第二节 全内反射下石墨烯的光学吸收率 | 第47-50页 |
第三节 小结 | 第50-51页 |
第四章 全内反射下应力对石墨烯光学吸收的调控 | 第51-66页 |
第一节 样品准备 | 第51-55页 |
·PDMS(聚二甲基硅氧烷)的制备 | 第51-52页 |
·CVD石墨烯的转移 | 第52-53页 |
·拉伸石墨烯 | 第53-55页 |
第二节 光路设计和测量方法 | 第55-59页 |
·实验光路的搭建 | 第55-56页 |
·实验数据的采集 | 第56-58页 |
·消除基底PDMS对实验结果的影响 | 第58-59页 |
第三节 实验结果的分析 | 第59-64页 |
·拉力对石墨烯光学吸收率的调控 | 第60-63页 |
·对所测结果的理论模拟 | 第63-64页 |
第四节 小结 | 第64-66页 |
第五章 总结和展望 | 第66-68页 |
参考文献 | 第68-72页 |
致谢 | 第72-73页 |
个人简历 | 第73页 |
在学期间发表的学术论文和研究成果 | 第73页 |