电沉积铜薄膜中织构与内应力的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-39页 |
| ·铜的电沉积原理 | 第11-13页 |
| ·电沉积的基本历程 | 第12页 |
| ·铜电沉积的电极反应 | 第12-13页 |
| ·电沉积铜薄膜的制备工艺 | 第13-16页 |
| ·硫酸盐镀铜 | 第13-14页 |
| ·氰化物碱性镀铜 | 第14页 |
| ·无氰镀铜 | 第14-16页 |
| ·电沉积铜薄膜的组织结构与性能 | 第16-20页 |
| ·电沉积铜薄膜的组织结构 | 第16-18页 |
| ·电沉积铜薄膜的性能 | 第18-20页 |
| ·薄膜中织构及其表征 | 第20-27页 |
| ·电沉积铜薄膜中的织构 | 第20页 |
| ·电沉积薄膜择优取向理论 | 第20-23页 |
| ·薄膜织构测量方法 | 第23-27页 |
| ·薄膜中内应力及其表征 | 第27-33页 |
| ·电沉积铜薄膜中的内应力 | 第27-28页 |
| ·电沉积薄膜内应力理论 | 第28-29页 |
| ·薄膜内应力测定方法 | 第29-33页 |
| ·选题意义及研究内容 | 第33-34页 |
| 参考文献 | 第34-39页 |
| 第2章 材料及实验方法 | 第39-53页 |
| ·材料制备及处理工艺 | 第39-43页 |
| ·镀液组成 | 第39-40页 |
| ·基底材料 | 第40-43页 |
| ·超声波电沉积 | 第43页 |
| ·后序低温处理 | 第43页 |
| ·实验方法 | 第43-46页 |
| ·形貌观察 | 第43页 |
| ·X射线衍射 | 第43页 |
| ·织构测量 | 第43-44页 |
| ·应力测定 | 第44页 |
| ·电化学测试 | 第44页 |
| ·力学性能测量 | 第44-46页 |
| ·电沉积铜薄膜自回火时间 | 第46-51页 |
| 参考文献 | 第51-53页 |
| 第3章 电沉积铜薄膜中的织构 | 第53-88页 |
| ·铜薄膜织构的XRD表征 | 第53-56页 |
| ·电流密度和薄膜厚度对薄膜织构的影响 | 第56-72页 |
| ·电流密度的影响 | 第56-61页 |
| ·薄膜厚度的影响 | 第61-64页 |
| ·铜薄膜电结晶初期的行为 | 第64-72页 |
| ·添加剂对电沉积铜薄膜织构的影响 | 第72-80页 |
| ·稀土铈盐 | 第72-76页 |
| ·聚乙二醇(PEG) | 第76-78页 |
| ·乙二胺四乙酸二钠(EDTA) | 第78-80页 |
| ·超声波电沉积工艺对铜薄膜织构的影响 | 第80-83页 |
| ·织构与薄膜的各向异性 | 第83-85页 |
| ·本章小结 | 第85-86页 |
| 参考文献 | 第86-88页 |
| 第4章 铜薄膜X射线弹性常数计算 | 第88-114页 |
| ·多晶材料弹性常数及X射线弹性常数计算 | 第88-93页 |
| ·多晶材料弹性常数计算 | 第89-91页 |
| ·多晶材料X射线弹性常数计算 | 第91-93页 |
| ·丝织构对材料弹性常数及X射线弹性常数的影响 | 第93-96页 |
| ·丝织构对材料弹性常数的影响 | 第93-94页 |
| ·丝织构对X射线弹性常数的影响 | 第94-96页 |
| ·电沉积铜薄膜X射线弹性常数及应力计算 | 第96-104页 |
| ·铜薄膜X射线弹性常数计算 | 第96-102页 |
| ·铜薄膜应力计算 | 第102-104页 |
| ·铜薄膜应力测定误差计算 | 第104-106页 |
| ·铜薄膜力学行为研究 | 第106-110页 |
| ·本章小结 | 第110-111页 |
| 参考文献 | 第111-114页 |
| 第5章 电沉积铜薄膜中的内应力 | 第114-132页 |
| ·电沉积工艺对铜薄膜内应力的影响 | 第114-121页 |
| ·内应力对薄膜织构的影响 | 第121-126页 |
| ·电沉积铜薄膜内应力调整 | 第126-130页 |
| ·超声波电沉积对铜薄膜内应力的影响 | 第126-127页 |
| ·后序低温处理对铜薄膜内应力的影响 | 第127-130页 |
| ·本章小结 | 第130-131页 |
| 参考文献 | 第131-132页 |
| 第6章 结论与创新 | 第132-135页 |
| 本文主要结论 | 第132-134页 |
| 本文主要创新 | 第134-135页 |
| 攻读博士学位期间发表论文及申请专利 | 第135-137页 |
| 致谢 | 第137-139页 |
