| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-34页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·硬质薄膜的分类 | 第11-14页 |
| ·本征硬质薄膜 | 第12页 |
| ·微结构强化硬质薄膜 | 第12-14页 |
| ·纳米多层膜的材料体系 | 第14-16页 |
| ·金属/金属体系 | 第14-15页 |
| ·金属/陶瓷体系 | 第15页 |
| ·陶瓷/陶瓷体系 | 第15-16页 |
| ·纳米多层膜的强化机制和设计准则 | 第16-20页 |
| ·模量差理论 | 第16-18页 |
| ·Hall-Petch 强化理论 | 第18-19页 |
| ·交变应力场理论 | 第19-20页 |
| ·纳米多层膜的设计准则 | 第20页 |
| ·纳米多层膜的生长 | 第20-22页 |
| ·稳定相的共格外延生长 | 第21页 |
| ·亚稳相的外延稳定化 | 第21-22页 |
| ·非晶相的外延晶化 | 第22页 |
| ·纳米多层膜的高温稳定性 | 第22-25页 |
| ·纳米多层膜的高温结构稳定性与力学性能稳定性 | 第22-23页 |
| ·纳米多层膜的化学稳定性 | 第23页 |
| ·含氧化物纳米多层膜的研究进展 | 第23-25页 |
| ·本课题的设计思想与研究内容 | 第25-28页 |
| 参考文献 | 第28-34页 |
| 第二章 薄膜的制备与检测 | 第34-41页 |
| ·镀膜设备 | 第34页 |
| ·热处理设备 | 第34页 |
| ·薄膜检测设备与检测方法 | 第34-40页 |
| ·X 射线衍射(XRD) | 第34-35页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第35页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第35-36页 |
| ·能量散射光谱仪(EDS) | 第36页 |
| ·微力学探针(Nano-indentor) | 第36-38页 |
| ·薄膜的硬度测量－两步压入法 | 第38-40页 |
| 参考文献 | 第40-41页 |
| 第三章 反应溅射VN/SiO_2纳米多层膜的微结构与力学性能 | 第41-58页 |
| ·引言 | 第41-42页 |
| ·实验 | 第42-46页 |
| ·反应溅射的热力学分析 | 第42-44页 |
| ·多层膜的制备与表征 | 第44-46页 |
| ·实验结果 | 第46-52页 |
| ·不同SiO_2调制层厚的多层膜 | 第46-51页 |
| ·不同VN 调制层厚的多层膜 | 第51-52页 |
| ·讨论 | 第52-55页 |
| ·多层膜的生长 | 第52-53页 |
| ·多层膜中SiO_2赝晶层的临界厚度 | 第53-54页 |
| ·多层膜的强化机制 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-58页 |
| 第四章 反应溅射VN/ALON 纳米多层膜的微结构与力学性能 | 第58-71页 |
| ·引言 | 第58页 |
| ·实验 | 第58-60页 |
| ·实验结果 | 第60-66页 |
| ·A lON 的形成 | 第60-61页 |
| ·不同AlON 调制层厚的多层膜 | 第61-64页 |
| ·不同VN 调制层厚的多层膜 | 第64-66页 |
| ·讨论 | 第66-67页 |
| ·多层膜的生长 | 第66页 |
| ·多层膜的超硬效应 | 第66-67页 |
| ·多层膜的沉积效率 | 第67页 |
| ·VN 基纳米多层膜的抗氧化性 | 第67页 |
| ·本章小结 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-71页 |
| 第五章 ZrO_2/TIN 纳米多层膜的微结构与力学性能 | 第71-83页 |
| ·引言 | 第71-72页 |
| ·实验 | 第72-73页 |
| ·实验结果 | 第73-78页 |
| ·多层膜的调制结构 | 第73页 |
| ·多层膜的微结构 | 第73-77页 |
| ·多层膜的力学性能 | 第77-78页 |
| ·讨论 | 第78-81页 |
| ·多层膜的生长 | 第78页 |
| ·多层膜的力学性能 | 第78-81页 |
| ·本章小结 | 第81-82页 |
| 参考文献 | 第82-83页 |
| 第六章 TIALN/Si_3N_4纳米多层膜的微结构、力学性能及其高温稳定性 | 第83-104页 |
| ·引言 | 第83-84页 |
| ·实验 | 第84-86页 |
| ·多层膜的测试结果 | 第86-91页 |
| ·不同Si_3N_4调制层厚的多层膜（A 系列） | 第86-90页 |
| ·不同TiAlN 调制层厚的多层膜（B 系列） | 第90-91页 |
| ·多层膜的高温稳定性 | 第91-96页 |
| ·多层膜的结构稳定性 | 第91-93页 |
| ·多层膜的抗氧化性 | 第93-94页 |
| ·多层膜的力学性能稳定性 | 第94-96页 |
| ·讨论 | 第96-100页 |
| ·多层膜的生长 | 第96-97页 |
| ·多层膜的强化 | 第97-98页 |
| ·纳米晶复合膜的微结构与强化机制的思考 | 第98-100页 |
| ·多层膜的高温稳定性 | 第100页 |
| ·本章小结 | 第100-102页 |
| 参考文献 | 第102-104页 |
| 第七章 纳米多层膜的强化机制和设计准则 | 第104-116页 |
| ·引言 | 第104页 |
| ·纳米多层膜超硬效应的讨论 | 第104-112页 |
| ·模量差所致的强化 | 第104-109页 |
| ·交变应力场所致的强化 | 第109-112页 |
| ·具有超硬效应纳米多层膜设计准则的讨论 | 第112-114页 |
| ·本章小结 | 第114-115页 |
| 参考文献 | 第115-116页 |
| 第八章 主要结论和创新点 | 第116-119页 |
| ·主要结论 | 第116-117页 |
| ·论文创新点 | 第117-119页 |
| 致谢 | 第119-120页 |
| 攻读博士学位期间发表论文 | 第120-123页 |
