| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-23页 |
| ·形状记忆合金的发展与应用 | 第10-16页 |
| ·形状记忆合金的发展 | 第10-11页 |
| ·形状记忆合金的应用 | 第11-13页 |
| ·形状记忆合金的性能与特点 | 第13-16页 |
| ·TiNiCu 形状记忆合金薄膜的发展与应用 | 第16-20页 |
| ·TiNiCu 形状记忆合金薄膜的制备方法 | 第16-19页 |
| ·溅射工艺参数对 TiNiCu 薄膜的影响 | 第19-20页 |
| ·TiNiCu 形状记忆合金薄膜的相变行为及力学性能 | 第20-22页 |
| ·TiNiCu 形状记忆合金薄膜的相变过程 | 第20-21页 |
| ·TiNiCu 合金薄膜的力学性能 | 第21-22页 |
| ·选题意义和研究目的 | 第22-23页 |
| ·选题意义 | 第22页 |
| ·研究目的及论文的主要内容 | 第22-23页 |
| 第2章 实验材料及实验方法 | 第23-29页 |
| ·薄膜制备 | 第23-26页 |
| ·基片的选择与预处理 | 第23-24页 |
| ·靶材设计及准备 | 第24页 |
| ·薄膜制备的工艺流程 | 第24-25页 |
| ·薄膜的晶化退火工艺 | 第25-26页 |
| ·薄膜分析测试方法 | 第26-28页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第26页 |
| ·原子力显微镜 | 第26-27页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第27页 |
| ·DSC 差式扫描量热仪 | 第27-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 第3章 靶材成分调整和薄膜溅射工艺参数的优化 | 第29-48页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·样品制备及实验过程 | 第29-31页 |
| ·靶材成分的调整及实验结果分析 | 第31-38页 |
| ·TiNiCu 薄膜溅射工艺参数的优化 | 第38-46页 |
| ·溅射压强的优化 | 第38-42页 |
| ·溅射功率的优化 | 第42-45页 |
| ·本底真空度 | 第45页 |
| ·靶材与基片的距离 | 第45页 |
| ·Ar 气流量 | 第45-46页 |
| ·优化溅射参数后 TiNiCu 薄膜表面和截面形态分析 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第4章 实验结果分析 | 第48-57页 |
| ·引言 | 第48页 |
| ·实验结果分析 | 第48-51页 |
| ·薄膜的 XRD 分析 | 第49-50页 |
| ·薄膜的 DSC 测试分析 | 第50-51页 |
| ·薄膜驱动特性分析 | 第51-55页 |
| ·实验过程 | 第52-53页 |
| ·结果分析 | 第53-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-64页 |
| 致谢 | 第64页 |