超光滑光学元件离子束沉积修正抛光技术研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 1 绪论 | 第8-17页 |
| ·超光滑光学元件 | 第8-10页 |
| ·简介 | 第8页 |
| ·超光滑光学元件的特点 | 第8-9页 |
| ·超光滑光学元件的主要应用 | 第9-10页 |
| ·超光滑光学元件的发展现状 | 第10-12页 |
| ·先进超光滑表面加工工艺 | 第12-16页 |
| ·计算机控制光学表面成形技术 | 第12页 |
| ·应力盘抛光法 | 第12-13页 |
| ·浮法抛光 | 第13-14页 |
| ·磁流变抛光 | 第14-15页 |
| ·等离子体抛光技术 | 第15页 |
| ·离子束刻蚀抛光 | 第15-16页 |
| ·研究方案 | 第16-17页 |
| 2. 超光滑表面的影响因素 | 第17-22页 |
| ·表面粗糙度对超光滑反射镜光学性能的影响 | 第17-18页 |
| ·表面污染对超光滑元件光学性能的影响 | 第18-19页 |
| ·表面波纹度评价参数 | 第19-20页 |
| ·功率谱密度(PSD)参数评价 | 第20-22页 |
| 3 离子束沉积修正抛光工艺的研究路线 | 第22-28页 |
| ·离子束沉积修正抛光工艺的技术路线 | 第22-23页 |
| ·离子束沉积修正抛光工艺的理论基础 | 第23-28页 |
| ·有机聚合物的表面性质 | 第23-24页 |
| ·离子束刻蚀抛光工艺 | 第24-25页 |
| ·超光滑光学元件的干涉检测 | 第25-28页 |
| 4 有机物薄膜表面的平坦化回流技术 | 第28-50页 |
| ·实验材料介绍 | 第28-31页 |
| ·平坦化层的选择 | 第31-34页 |
| ·离子束刻蚀抛光参数的选择 | 第31-32页 |
| ·平坦化层材料的选择 | 第32-34页 |
| ·平坦化层薄膜的制备工艺研究 | 第34-36页 |
| ·光刻胶薄膜的制备 | 第34-35页 |
| ·不同薄膜厚度的光刻胶与表面粗糙度之间的关系 | 第35-36页 |
| ·平坦化回流工艺的设计 | 第36-41页 |
| ·ZnS晶体平坦化回流工艺研究 | 第41-49页 |
| ·初始ZnS晶体表面检测 | 第41-43页 |
| ·旋涂有机光刻胶薄膜的ZnS晶体表面检测 | 第43-44页 |
| ·温度对平坦化回流处理的影响 | 第44-46页 |
| ·ZnS晶体平坦化回流工艺 | 第46-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 5 ZnS晶体离子束沉积修正抛光技术的实验研究 | 第50-55页 |
| ·ZnS晶体离子束沉积修正抛光技术的实验 | 第50-53页 |
| ·紫外光照射对有机光刻胶表面的影响 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 6 结论 | 第55-58页 |
| ·结论 | 第55页 |
| ·展望 | 第55-58页 |
| 参考文献 | 第58-61页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-64页 |
