真空紫外光学薄膜制备及其性能检测技术研究
| 致谢 | 第1-4页 |
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-14页 |
| 1 绪论 | 第14-29页 |
| ·研究背景 | 第14-15页 |
| ·国内外研究现状 | 第15-22页 |
| ·真空紫外光学薄膜材料 | 第15-16页 |
| ·真空紫外光学薄膜制备工艺 | 第16-17页 |
| ·真空紫外多层光学薄膜性能 | 第17-19页 |
| ·真空紫外光学薄膜后处理 | 第19-22页 |
| ·真空紫外光学薄膜的一些技术问题 | 第22-27页 |
| ·真空紫外光学薄膜光学常数确定 | 第22-23页 |
| ·真空镀膜光学薄膜厚度均匀性校正 | 第23-25页 |
| ·倾斜沉积光学薄膜性能研究 | 第25-27页 |
| ·本论文主要研究内容 | 第27-29页 |
| 2 光度法确定薄膜光学常数 | 第29-57页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·理论基础 | 第29-37页 |
| ·光学薄膜模型 | 第29-34页 |
| ·单面校正光谱 | 第34-36页 |
| ·光学薄膜基底 | 第36-37页 |
| ·基底光学常数确定 | 第37-39页 |
| ·基底样品准备 | 第37页 |
| ·基底光学常数获取 | 第37-39页 |
| ·薄膜光学常数确定 | 第39-56页 |
| ·包络法确定薄膜光学常数 | 第39-47页 |
| ·多参数拟合法 | 第47-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 3 真空镀膜机行星旋转系统薄膜厚度非均匀性校正 | 第57-84页 |
| ·引言 | 第57页 |
| ·理论基础 | 第57-68页 |
| ·平面光学元件 | 第60页 |
| ·球面光学元件 | 第60-61页 |
| ·圆锥形光学元件 | 第61-62页 |
| ·水平圆柱形光学元件 | 第62-68页 |
| ·修正挡板校正膜厚非均匀性 | 第68-72页 |
| ·修正挡板校正薄膜厚度模型 | 第68-70页 |
| ·修正挡板优化设计 | 第70-72页 |
| ·修正挡板校正膜厚非均匀性实例 | 第72-82页 |
| ·实验样品制备 | 第72-74页 |
| ·蒸发源发射特性确定 | 第74-76页 |
| ·修正挡板校正薄膜厚度均匀性结果 | 第76-82页 |
| ·本章小结 | 第82-84页 |
| 4 倾斜沉积氟化镁光学薄膜性能研究 | 第84-102页 |
| ·引言 | 第84页 |
| ·倾斜沉积氟化镁光学薄膜 | 第84-100页 |
| ·光学薄膜制备 | 第84-85页 |
| ·光学薄膜性能表征 | 第85-96页 |
| ·薄膜光谱性能老化 | 第96-98页 |
| ·紫外光辐照处理 | 第98-100页 |
| ·本章小结 | 第100-102页 |
| 5 总结与展望 | 第102-105页 |
| ·论文主要工作 | 第102-103页 |
| ·论文创新点 | 第103页 |
| ·存在的问题 | 第103-104页 |
| ·对后续工作建议 | 第104-105页 |
| 参考文献 | 第105-119页 |
| 作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第119-121页 |
