| 致谢 | 第1-5页 |
| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-27页 |
| ·课题的背景与意义 | 第13-16页 |
| ·国内外研究现状 | 第16-24页 |
| ·含衍射元件光学系统杂散光研究现状 | 第17-20页 |
| ·用于匀光的复眼透镜杂散光研究现状 | 第20-21页 |
| ·光刻系统中杂散光的研究现状 | 第21-24页 |
| ·本文的主要研究内容与结构安排 | 第24-27页 |
| ·论文的主要研究内容 | 第24页 |
| ·论文的结构安排 | 第24-27页 |
| 第2章 衍射光学系统杂散光研究的基本理论 | 第27-43页 |
| ·标量衍射理论 | 第27-30页 |
| ·菲涅尔衍射 | 第27-28页 |
| ·夫琅禾费衍射 | 第28页 |
| ·计算机中衍射积分的实现 | 第28-30页 |
| ·杂散光分析的基本理论 | 第30-36页 |
| ·光学系统的散射表面 | 第30页 |
| ·双向散射分布函数 | 第30-31页 |
| ·基本能量传输方程 | 第31-32页 |
| ·全积分散射 | 第32-33页 |
| ·Beckman 标量散射理论 | 第33-35页 |
| ·散射模型 | 第35-36页 |
| ·光刻系统杂散光的来源及抑制杂散光的一般方法 | 第36-40页 |
| ·光刻系统杂散光的来源 | 第36-37页 |
| ·光刻系统中杂散光抑制的一般方法 | 第37-40页 |
| ·杂散光分析方法 | 第40-41页 |
| ·蒙特卡罗法(Monte Carlo) | 第40页 |
| ·光线追迹法 | 第40-41页 |
| ·分析软件简介 | 第41-43页 |
| 第3章 衍射元件设计算法研究 | 第43-57页 |
| ·衍射元件的设计原理 | 第43-44页 |
| ·衍射元件主要设计算法概述 | 第44-49页 |
| ·盖师贝格-撒克斯通算法 | 第44-46页 |
| ·输入-输出算法 | 第46页 |
| ·模拟退火算法 | 第46-48页 |
| ·遗传算法 | 第48-49页 |
| ·具有全局优化特性的混合算法 | 第49-53页 |
| ·评价函数的定义 | 第50页 |
| ·算法描述 | 第50-53页 |
| ·各种设计算法的对比 | 第53-56页 |
| ·小结 | 第56-57页 |
| 第4章 衍射元件设计参数对杂散光的影响 | 第57-67页 |
| ·衍射元件产生高级次衍射杂散光的理论分析 | 第57-60页 |
| ·抑制高级次衍射杂散光的方法 | 第60-62页 |
| ·仿真分析 | 第62-65页 |
| ·小结 | 第65-67页 |
| 第5章 衍射元件加工误差对杂散光的影响 | 第67-91页 |
| ·衍射元件的制作工艺简介 | 第67-70页 |
| ·光刻工艺 | 第67-68页 |
| ·离子束刻蚀工艺 | 第68-69页 |
| ·掩模套刻技术 | 第69-70页 |
| ·加工误差对杂散光的影响分析 | 第70-88页 |
| ·台阶量化误差对杂散光的影响 | 第72-77页 |
| ·对准误差对杂散光的影响 | 第77-81页 |
| ·随机刻蚀深度误差对杂散光的影响 | 第81-82页 |
| ·球形刻蚀深度误差对杂散光的影响 | 第82-88页 |
| ·小结 | 第88-91页 |
| 第6章 衍射元件的杂散光实验及结果分析 | 第91-97页 |
| ·衍射元件表面轮廓的测试 | 第91-92页 |
| ·实验原理及光路 | 第92-94页 |
| ·实验结果及分析 | 第94-96页 |
| ·小结 | 第96-97页 |
| 第7章 复眼透镜的匀光原理及加工误差对杂散光的影响 | 第97-115页 |
| ·匀光系统工作的基本原理 | 第97-102页 |
| ·单排复眼透镜与双排复眼透镜匀光的比较 | 第97-98页 |
| ·双排复眼透镜匀光光路的计算 | 第98-100页 |
| ·复眼透镜入射光场相干性的讨论 | 第100-102页 |
| ·双排复眼透镜匀光系统的仿真分析 | 第102-105页 |
| ·复眼透镜的制作方法 | 第105-107页 |
| ·复眼透镜加工误差对杂散光的影响 | 第107-113页 |
| ·复眼透镜随机焦距误差对像面上杂散光的影响 | 第107-110页 |
| ·微透镜之间的过渡带误差对杂散光的影响 | 第110-113页 |
| ·小结 | 第113-115页 |
| 第8章 衍射元件杂散光在光刻系统中的总体分析 | 第115-129页 |
| ·光刻系统的总体结构 | 第115-116页 |
| ·光刻系统仿真分析流程 | 第116-118页 |
| ·光刻系统总体能量利用率的分析 | 第118-122页 |
| ·照明系统的能量利用率 | 第118-119页 |
| ·投影物镜系统能量利用率 | 第119-120页 |
| ·光刻系统总能量利用率 | 第120页 |
| ·衍射元件产生的杂散光在光刻系统像面上的能量计算 | 第120-122页 |
| ·衍射元件杂散光对光刻曝光质量的影响 | 第122-126页 |
| ·无杂散光时的曝光情况 | 第122-124页 |
| ·衍射元件无加工误差时的曝光情况 | 第124页 |
| ·衍射元件存在对准误差时的曝光情况 | 第124-125页 |
| ·衍射元件存在球形刻蚀深度误差时的曝光情况 | 第125-126页 |
| ·小结 | 第126-129页 |
| 第9章 总结与展望 | 第129-133页 |
| ·本论文的主要研究工作 | 第129-130页 |
| ·本论文的创新之处 | 第130-131页 |
| ·本论文的不足与展望 | 第131-133页 |
| 参考文献 | 第133-141页 |
| 作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第141-142页 |