| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 1 绪论 | 第10-24页 |
| ·薄膜材料的概述 | 第10-15页 |
| ·薄膜的定义 | 第10页 |
| ·薄膜材料的分类 | 第10-11页 |
| ·薄膜材料的特殊性 | 第11-13页 |
| ·薄膜材料的结构缺陷 | 第13-14页 |
| ·薄膜材料的性能 | 第14-15页 |
| ·氧化锌的性质及应用 | 第15-16页 |
| ·氧化锌的晶体结构 | 第15-16页 |
| ·氧化锌的基本性质 | 第16页 |
| ·氧化锌的缺陷 | 第16-19页 |
| ·氧化锌的本征缺陷 | 第16-19页 |
| ·ZnO 薄膜中主要施主受主的形成 | 第19页 |
| ·氧化锌纳米薄膜的制备方法 | 第19-22页 |
| ·制备氧化锌薄膜的化学方法 | 第19-21页 |
| ·氧化锌薄膜制备的物理方法 | 第21-22页 |
| ·本课题的研究意义和内容 | 第22-24页 |
| ·本课题的研究意义 | 第22-23页 |
| ·本课题的研究内容需要概括的部分 | 第23-24页 |
| 2 测试表征仪器简介 | 第24-31页 |
| ·X 射线衍射（XRD） | 第24-25页 |
| ·X 射线的发现和发展过程 | 第24页 |
| ·X 射线与物质的相互作用 | 第24-25页 |
| ·X 射线衍射原理 | 第25页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第25-27页 |
| ·扫描电镜的结构 | 第25-26页 |
| ·工作原理 | 第26-27页 |
| ·性能和特点 | 第27页 |
| ·光致发光谱（PL） | 第27-28页 |
| ·紫外可见光谱 | 第28-31页 |
| ·紫外可见光谱的基本原理 | 第28页 |
| ·紫外可见光谱仪 | 第28页 |
| ·半导体材料禁带宽度的测量 | 第28-31页 |
| 3 ZnO 薄膜的制备及表征 | 第31-40页 |
| ·引言 | 第31页 |
| ·薄膜的形成机理 | 第31-34页 |
| ·形核 | 第31-32页 |
| ·成核理论 | 第32页 |
| ·生长过程 | 第32-34页 |
| ·超声喷雾热解法原理 | 第34-36页 |
| ·超声喷雾热解制备薄膜的沉积原理 | 第34-35页 |
| ·雾化颗粒沉积的过程 | 第35-36页 |
| ·超声喷雾热解技术的优点 | 第36页 |
| ·实验参数的影响 | 第36-37页 |
| ·衬底温度对实验参数的影响 | 第36页 |
| ·溶液浓度对实验参数的影响 | 第36-37页 |
| ·退火对实验参数的影响 | 第37页 |
| ·其它工艺对实验参数的影响 | 第37页 |
| ·实验结果的分析和讨论 | 第37-39页 |
| ·结构特征分析 | 第37-38页 |
| ·表面形貌分析 | 第38-39页 |
| ·紫外可见光吸收图谱分析 | 第39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 4 超声喷雾热分解法制备 NIn 共掺杂 ZnO 薄膜及其表征 | 第40-49页 |
| ·NIn 共掺杂 ZnO 薄膜的制备过程 | 第40-41页 |
| ·实验样品的制备 | 第41页 |
| ·结果与表征 | 第41-48页 |
| ·XRD | 第42-43页 |
| ·SEM | 第43-45页 |
| ·PL 谱(光致发光谱分析) | 第45-47页 |
| ·紫外可见光吸收图谱分析（透过率） | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 结论 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-54页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第54-56页 |
| 致谢 | 第56页 |