| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 概述 | 第10-26页 |
| ·超导材料的简介 | 第10-11页 |
| ·超导体的发现与发展 | 第10-11页 |
| ·高温超导材料的应用 | 第11页 |
| ·YBCO 涂层导体的结构 | 第11-12页 |
| ·缓冲层制备技术及金属基带的选择 | 第12-13页 |
| ·抛光工艺简介 | 第13-21页 |
| ·机械抛光 | 第13-15页 |
| ·化学抛光 | 第15-16页 |
| ·化学机械抛光 | 第16-17页 |
| ·电解抛光 | 第17页 |
| ·超声波抛光 | 第17-18页 |
| ·射流抛光 | 第18-19页 |
| ·磁研磨抛光 | 第19页 |
| ·溶液沉积平整化 | 第19-21页 |
| ·缓冲层 | 第21-22页 |
| ·YBCO 超导层 | 第22-24页 |
| ·国内外研究现状 | 第24页 |
| ·论文的选题依据与研究方案 | 第24-26页 |
| 第二章 实验方法与原理 | 第26-40页 |
| ·SDP 法简介 | 第26页 |
| ·材料体系的选取 | 第26-27页 |
| ·实验原料及仪器 | 第27-29页 |
| ·化学试剂 | 第27-28页 |
| ·实验设备和器材 | 第28页 |
| ·合金基带 | 第28-29页 |
| ·SDP 工艺流程 | 第29-34页 |
| ·实验器皿与基带的清洗处理 | 第30-31页 |
| ·前驱体溶液的配制 | 第31-32页 |
| ·前驱液的涂覆 | 第32-34页 |
| ·热处理 | 第34页 |
| ·测试分析方法 | 第34-40页 |
| ·X 射线衍射 | 第35-36页 |
| ·原子力显微镜 | 第36-38页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第38-40页 |
| 第三章 SDP 法制备非晶薄膜的工艺研究 | 第40-69页 |
| ·化学药品的选择 | 第40-42页 |
| ·基带的焊接 | 第42页 |
| ·前驱液稳定性 | 第42-44页 |
| ·氧化钇非晶薄膜的工艺参数研究及 YBCO 薄膜的制备 | 第44-53页 |
| ·前驱液浓度和热处理温度对氧化钇非晶薄膜的影响 | 第44-49页 |
| ·薄膜层数对氧化钇非晶薄膜的影响 | 第49-50页 |
| ·氧化钇非晶薄膜对 YBCO 超导薄膜的影响 | 第50-53页 |
| ·钇铝混合氧化物非晶薄膜的工艺参数研究及 IBAD-MGO 的制备 | 第53-60页 |
| ·前驱液浓度和热处理温度对钇铝混合氧化物非晶薄膜的影响 | 第53-57页 |
| ·薄膜层数对钇铝混合氧化物非晶薄膜的影响 | 第57-58页 |
| ·钇铝混合氧化物非晶薄膜上的 IBAD 沉积实验 | 第58-60页 |
| ·二氧化硅非晶薄膜的工艺参数研究 | 第60-66页 |
| ·前驱液浓度和热处理温度对二氧化硅非晶薄膜的影响 | 第60-65页 |
| ·薄膜层数对二氧化硅非晶薄膜的影响 | 第65-66页 |
| ·SDP 薄膜上的 ISD 沉积实验 | 第66-68页 |
| ·氧化钇非晶薄膜上沉积 ISD-MgO 薄膜 | 第66-67页 |
| ·钇铝混合氧化物非晶薄膜上沉积 ISD-MgO 薄膜 | 第67页 |
| ·二氧化硅非晶薄膜上沉积 ISD-MgO 薄膜 | 第67-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 第四章 结论 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-75页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第75-76页 |
