| 中文摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-22页 |
| ·概述 | 第11页 |
| ·金刚石结构 | 第11-12页 |
| ·人工合成金刚石的发展过程和性质及其在实际中的应用 | 第12-15页 |
| ·人工合成金刚石的历史发展过程 | 第12-13页 |
| ·金刚石的优异性质及其在实际中的应用 | 第13-15页 |
| ·CVD 金刚石薄膜的成核及生长机理 | 第15-17页 |
| ·碳的 P-T 相图 | 第16页 |
| ·成核过程 | 第16-17页 |
| ·CVD 金刚石薄膜生长 | 第17页 |
| ·影响 CVD 金刚石薄膜生长的几个主要因素 | 第17-19页 |
| ·衬底材料 | 第17-18页 |
| ·衬底预处理 | 第18页 |
| ·实验参数 | 第18-19页 |
| ·硼掺杂金刚石（BDD）薄膜电极在污水处理方面的应用 | 第19-21页 |
| ·BDD 薄膜电极的优势 | 第19-20页 |
| ·BDD 薄膜电极衬底材料的选择 | 第20-21页 |
| ·论文的选题及主要内容 | 第21-22页 |
| 第二章 CVD 金刚石薄膜沉积技术及其表征手段 | 第22-26页 |
| ·CVD 金刚石薄膜沉积技术简介 | 第22-24页 |
| ·热丝 CVD 法（HFCVD） | 第22-23页 |
| ·微波等离子体 CVD 法（MPCVD） | 第23页 |
| ·直流热阴极等离子体 CVD 法（DC-PCVD） | 第23-24页 |
| ·直流弧光放电等离子体 CVD 法 | 第24页 |
| ·CVD 金刚石薄膜的常用表征手段 | 第24-26页 |
| ·光学显微镜 | 第24-25页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第25页 |
| ·X 光衍射（XRD） | 第25页 |
| ·激光拉曼光谱（Raman） | 第25-26页 |
| 第三章 HFCVD 法制备 Ti/BDD 电极及其性质表征 | 第26-45页 |
| ·HFCVD 设备介绍及其主要操作步骤 | 第26-28页 |
| ·HFCVD 设备介绍 | 第26-27页 |
| ·HFCVD 设备主要操作步骤 | 第27-28页 |
| ·制备硼掺杂金刚石时所使用的硼源 | 第28-29页 |
| ·衬底的预处理 | 第29-30页 |
| ·无偏压时对 Ti/BDD 薄膜生长条件的优化 | 第30-37页 |
| ·甲烷流量对 BDD 膜形貌及品质的影响 | 第31-34页 |
| ·硼流量对 BDD 膜形貌及品质的影响 | 第34-37页 |
| ·加偏压时偏压参数对 BDD 膜质量的影响 | 第37-41页 |
| ·偏压对 BDD 膜质量的影响 | 第37-39页 |
| ·加偏压与无偏压时的比较 | 第39-41页 |
| ·泡沫钛衬底上生长 BDD 薄膜 | 第41-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 Ti/BDD 电极的电化学特性及其应用 | 第45-54页 |
| ·引言 | 第45-46页 |
| ·Ti/BDD 电极的电化学性质表征 | 第46-50页 |
| ·低浓度苯酚溶液的降解实验 | 第50-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第五章 全文总结 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-62页 |
| 致谢 | 第62页 |
