曲面激光直写系统与关键技术研究
| 致谢 | 第1-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 1 绪论 | 第11-32页 |
| ·微光学与微光学器件 | 第11-14页 |
| ·微加工技术 | 第14-24页 |
| ·掩膜光刻技术 | 第14-17页 |
| ·无掩膜光刻技术 | 第17-24页 |
| ·曲面激光直写 | 第24-26页 |
| ·本论文主要研究内容 | 第26-28页 |
| 参考文献 | 第28-32页 |
| 2 曲面光刻理论 | 第32-70页 |
| ·曲面光刻概述 | 第32-33页 |
| ·基于曲面基片的光刻胶表面空间光场分布 | 第33-45页 |
| ·光刻物镜后的光场分布 | 第33-39页 |
| ·曲面基片上光刻胶表面的光场分布 | 第39-45页 |
| ·曲面激光直写动态曝光 | 第45-53页 |
| ·光刻胶内光场的传输与分布 | 第45-49页 |
| ·曲面上激光直写动态爆光模型 | 第49-53页 |
| ·曲面激光直写线条分析 | 第53-65页 |
| ·曝光对线条的影响分析 | 第55-62页 |
| ·调焦对线条的影响分析与曲面直写焦深DOF | 第62-65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-70页 |
| 3 曲面激光直写系统总体设计 | 第70-85页 |
| ·恒姿态曲面激光直写系统 | 第70-81页 |
| ·直线平移及转台子系统 | 第71-76页 |
| ·曲面对中及对中子系统 | 第76-80页 |
| ·电气控制子系统 | 第80-81页 |
| ·刻蚀加工系统 | 第81-83页 |
| ·本章小结 | 第83-84页 |
| 参考文献 | 第84-85页 |
| 4 曲面上焦点的检测 | 第85-111页 |
| ·概述 | 第85页 |
| ·焦点检测的方法及分析 | 第85-88页 |
| ·曲面上焦点的动态扫描检测 | 第88-97页 |
| ·曲面上焦点的系统响应模型 | 第89-93页 |
| ·曲面上焦点的系统响应特性 | 第93-97页 |
| ·基于动态扫描检测的曲面焦点误差信号(FES) | 第97-103页 |
| ·动态扫描检测参数设计优化 | 第103-107页 |
| ·本章小结 | 第107-109页 |
| 参考文献 | 第109-111页 |
| 5 曲面上焦点的控制 | 第111-129页 |
| ·焦点定位系统建模及分析 | 第112-118页 |
| ·宏动平台物理模型建立与分析 | 第113-115页 |
| ·微动平台物理模型建立与分析 | 第115-117页 |
| ·宏/微双驱动物理模型的建立 | 第117-118页 |
| ·焦点定位控制 | 第118-122页 |
| ·曲面上焦点搜索机制 | 第122-126页 |
| ·本章小结 | 第126-127页 |
| 参考文献 | 第127-129页 |
| 6 恒姿态曲面激光直写系统的建立与初步实验 | 第129-144页 |
| ·恒姿态曲面激光直写系统的建立 | 第129-134页 |
| ·曲面焦点检测实验 | 第134-139页 |
| ·曲面焦点控制实验 | 第139-140页 |
| ·曲面线条光刻实验 | 第140-142页 |
| ·本章小结 | 第142-143页 |
| 参考文献 | 第143-144页 |
| 7 总结和展望 | 第144-148页 |
| ·本论文回顾与总结 | 第144-146页 |
| ·对论文相关内容的展望 | 第146-148页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第148页 |
