摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-11页 |
第一章 绪论 | 第11-17页 |
·引言 | 第11页 |
·锰基钙钛矿结构氧化物的研究历史回顾 | 第11-12页 |
·稀土锰氧化物的结构和磁电阻 | 第12-13页 |
·晶体结构 | 第12-13页 |
·磁电阻 | 第13页 |
·稀土锰氧化物(CMR)效应的物理机制 | 第13-15页 |
·双交换模型 | 第13-14页 |
·Jahn-Teller畸变 | 第14-15页 |
·本文的选题意义及主要工作 | 第15-17页 |
第二章 样品制备及性能测试 | 第17-24页 |
·薄膜及体材料的制备方法 | 第17-18页 |
·薄膜材料的制备方法 | 第17-18页 |
·体材料的制备方法 | 第18页 |
·磁控溅射的原理 | 第18-20页 |
·溅射 | 第18-19页 |
·磁控溅射 | 第19-20页 |
·分析测试 | 第20-24页 |
·物相结构测试 | 第20页 |
·表面形貌的测试 | 第20-21页 |
·磁电阻(MR)的测试 | 第21-22页 |
·居里温度的测试 | 第22页 |
·红外吸收的测试 | 第22-23页 |
·微波吸收的测试 | 第23-24页 |
第三章 退火温度对La_(0.9)Sb_(0.1)MnO_3薄膜的结构及CMR的影响 | 第24-30页 |
·概述 | 第24页 |
·样品的制备 | 第24-25页 |
·制备靶材 | 第24页 |
·衬底选择 | 第24页 |
·衬底清洗 | 第24-25页 |
·磁控溅射镀膜 | 第25页 |
·退火处理 | 第25页 |
·结果及讨论 | 第25-29页 |
·薄膜的晶体结构 | 第25-26页 |
·薄膜的AFM分析 | 第26-27页 |
·薄膜的M-T分析 | 第27-28页 |
·薄膜的磁性质 | 第28-29页 |
·结论 | 第29-30页 |
第四章 钙钛矿锰氧化物(La_(1-x)RE_x)_(0.9)Sb_(0.1)MnO_3(RE=Nd,Tb,Ce,Pr)的结构及性能 | 第30-36页 |
·概述 | 第30页 |
·样品的制备 | 第30-31页 |
·结果及讨论 | 第31-35页 |
·晶体结构 | 第31-32页 |
·红外吸收光谱 | 第32-33页 |
·微波吸收 | 第33页 |
·M-T性质 | 第33-34页 |
·磁电阻(MR) | 第34-35页 |
·结论 | 第35-36页 |
第五章 钙钛矿锰氧化物La_(0.9)Sb_(0.1)Mn_(1-X)Ti_XO3的结构及性能 | 第36-41页 |
·概述 | 第36页 |
·样品的制备 | 第36-37页 |
·结果及讨论 | 第37-40页 |
·晶体结构 | 第37-38页 |
·红外吸收光谱 | 第38页 |
·微波吸收 | 第38-39页 |
·磁电阻(MR) | 第39-40页 |
·结论 | 第40-41页 |
参考文献 | 第41-45页 |
致谢 | 第45-46页 |
硕士期间发表的学术论文 | 第46-48页 |
硕士期间参加的科研课题 | 第48页 |