| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 1 绪论 | 第8-20页 |
| ·多孔阳极氧化铝(PAA)膜的概述 | 第8-13页 |
| ·PAA 膜的特点 | 第8-10页 |
| ·PAA 膜在合成纳米材料中的应用 | 第10-11页 |
| ·PAA 膜的制备工艺 | 第11页 |
| ·PAA 膜的形成机理 | 第11-13页 |
| ·椭圆偏振光谱技术概述 | 第13-18页 |
| ·椭圆偏振光谱技术的特点 | 第13-14页 |
| ·椭圆偏振光谱技术在电化学研究中的应用 | 第14-16页 |
| ·椭圆偏振光谱技术在铝阳极氧化方面的研究现状 | 第16-18页 |
| ·本文的研究目的及主要研究内容 | 第18-20页 |
| ·研究目的 | 第18页 |
| ·主要研究内容 | 第18-20页 |
| 2 实验 | 第20-28页 |
| ·实验材料及主要试剂 | 第20页 |
| ·实验材料 | 第20页 |
| ·主要试剂 | 第20页 |
| ·实验用主要仪器 | 第20-21页 |
| ·实验方法 | 第21-24页 |
| ·椭圆偏振光谱技术 | 第21-23页 |
| ·电化学方法 | 第23页 |
| ·场发射扫描电子显微镜(FE-SEM) | 第23-24页 |
| ·实验装置 | 第24-28页 |
| ·原位椭圆偏振光谱实验装置 | 第24-25页 |
| ·阳极氧化实验装置 | 第25页 |
| ·电化学阻抗谱(EIS)实验装置 | 第25-28页 |
| 3 PAA 膜初始生长阶段研究 | 第28-42页 |
| ·实验 | 第28-29页 |
| ·铝电极前处理 | 第28-29页 |
| ·原位椭圆偏振光谱研究 | 第29页 |
| ·EIS 研究 | 第29页 |
| ·FE-SEM 表征 | 第29页 |
| ·原位椭圆偏振光谱数据解析结果 | 第29-36页 |
| ·EIS 结果 | 第36-39页 |
| ·FE-SEM 结果 | 第39-40页 |
| ·小结 | 第40-42页 |
| 4 阳极氧化电压对 PAA 膜生长过程的影响 | 第42-50页 |
| ·实验 | 第42页 |
| ·电化学实验结果 | 第42-43页 |
| ·原位椭圆偏振光谱数据拟合结果 | 第43-49页 |
| ·铝阳极氧化膜生长过程 | 第43-47页 |
| ·分析氧化电压对多孔层生长速率的影响 | 第47-49页 |
| ·小结 | 第49-50页 |
| 5 阳极氧化温度对 PAA 膜生长过程的影响 | 第50-58页 |
| ·实验 | 第50页 |
| ·电化学实验结果 | 第50-51页 |
| ·原位椭圆偏振光谱数据拟合结果 | 第51-57页 |
| ·铝阳极氧化膜生长过程 | 第51-55页 |
| ·分析氧化温度对多孔层生长速率的影响 | 第55-57页 |
| ·小结 | 第57-58页 |
| 6 H_2C_2O_4溶液浓度对 PAA 膜生长过程的影响 | 第58-66页 |
| ·实验 | 第58页 |
| ·电化学实验结果 | 第58-59页 |
| ·原位椭圆偏振光谱数据拟合结果 | 第59-65页 |
| ·铝阳极氧化膜生长过程 | 第59-63页 |
| ·分析 H_2C_2O_4溶液浓度对多孔层生长速率的影响 | 第63-65页 |
| ·小结 | 第65-66页 |
| 7 结论与展望 | 第66-68页 |
| ·结论 | 第66页 |
| ·展望 | 第66-68页 |
| 致谢 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-78页 |
| 附录 | 第78页 |
| 作者在攻读学位期间发表的论文目录 | 第78页 |