| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-24页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·薄膜晶体管的结构及工作原理 | 第11-12页 |
| ·薄膜晶体管的器件结构 | 第11页 |
| ·薄膜晶体管的工作原理 | 第11-12页 |
| ·薄膜晶体管的发展历程及现状 | 第12-17页 |
| ·薄膜晶体管发展历程 | 第12-13页 |
| ·薄膜晶体管的发展现状 | 第13-17页 |
| ·薄膜晶体管的类型及其性能比较 | 第17-19页 |
| ·薄膜晶体管的分类 | 第17-18页 |
| ·不同类型 TFT 的性能比较 | 第18-19页 |
| ·薄膜晶体管的主要应用 | 第19-21页 |
| ·TFT 在液晶显示器中的应用 | 第19-20页 |
| ·TFT 在传感器中的应用 | 第20-21页 |
| ·本文的选题依据和主要内容 | 第21-24页 |
| 第2章 薄膜晶体管的制备工艺与测试技术 | 第24-33页 |
| ·薄膜晶体管衬底的选择及清洗 | 第24-25页 |
| ·薄膜的制备工艺 | 第25-28页 |
| ·电子束蒸发法 | 第25-26页 |
| ·磁控溅射法 | 第26-27页 |
| ·化学气相沉积法 | 第27-28页 |
| ·薄膜晶体管的测试技术 | 第28-32页 |
| ·半导体参数分析仪 | 第28-29页 |
| ·阻抗分析仪 | 第29-30页 |
| ·霍尔效应分析仪 | 第30页 |
| ·紫外可见分光光度计 | 第30-31页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第31页 |
| ·X 射线衍射仪 | 第31-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第3章 低压双电荷层 ITO 薄膜晶体管 | 第33-40页 |
| ·ITO 薄膜晶体管的制备 | 第33-34页 |
| ·器件结构 | 第33页 |
| ·器件的制备过程 | 第33-34页 |
| ·器件各层薄膜的形貌结构分析 | 第34-36页 |
| ·ITO 薄膜的形貌结构分析 | 第34-35页 |
| ·SiO_2薄膜的形貌结构分析 | 第35-36页 |
| ·ITO 薄膜晶体管的性能分析 | 第36-37页 |
| ·ITO 薄膜晶体管的低压工作原理 | 第37-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 一步掩膜法制备 ITO 纸上柔性薄膜晶体管 | 第40-49页 |
| ·引言 | 第40-41页 |
| ·实验材料和实验设备 | 第41页 |
| ·一步掩膜法晶体管的制备过程 | 第41-42页 |
| ·器件的的性能分析 | 第42-48页 |
| ·ITO 沟道和电极的形貌及电学特性分析 | 第42-43页 |
| ·纸上 SiO_2的形貌及电学特性分析 | 第43-45页 |
| ·纸上 ITO TFT 的电学性能分析 | 第45-47页 |
| ·纸上 ITO TFT 弯曲后的电学性能分析 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 结论 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 附录 A（攻读学位期间发表的学术论文情况） | 第55页 |