| 内容提要 | 第1-5页 |
| 中文摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-23页 |
| ·金刚石的结构特征、性质及应用 | 第13-18页 |
| ·金刚石的晶体结构 | 第13-14页 |
| ·金刚石的分类 | 第14页 |
| ·金刚石的性质及应用 | 第14-18页 |
| ·金刚石（膜）的发展历史 | 第18-20页 |
| ·CVD 金刚石的主要制备方法 | 第20-22页 |
| 1 热灯丝 CVD 法 | 第20-21页 |
| 2 微波等离子体 CVD 法 | 第21页 |
| 3 直流等离子体喷射 CVD 法 | 第21-22页 |
| ·论文的选题及主要研究内容 | 第22-23页 |
| 第二章 实验设备及表征方法 | 第23-29页 |
| ·微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）装置 | 第23-24页 |
| ·本论文采用的 MPCVD 装置介绍 | 第23页 |
| ·MPCVD 法制备曲面金刚石膜的工艺 | 第23-24页 |
| ·MPCVD 法制备大尺寸单晶金刚石的工艺 | 第24页 |
| ·射频磁控溅射系统 | 第24-26页 |
| ·高压反应釜 | 第26页 |
| ·CVD 金刚石的表征技术 | 第26-29页 |
| 1、光学显微镜 | 第26页 |
| 2、扫描电子显微镜 | 第26-27页 |
| 3、激光拉曼光谱 | 第27页 |
| 4、X 射线衍射谱 | 第27页 |
| 5、光致发光光谱 | 第27-28页 |
| 6、原子力显微镜 | 第28-29页 |
| 第三章 CVD 曲面金刚石自支撑膜的生长及性质 | 第29-45页 |
| ·各因素对 CVD 曲面金刚石膜生长的影响 | 第29-40页 |
| 1、碳源浓度对 CVD 曲面金刚石膜生长的影响 | 第29-30页 |
| 2、微波功率对 CVD 曲面金刚石膜生长的影响 | 第30页 |
| 3、压强对 CVD 曲面金刚石膜生长的影响 | 第30-31页 |
| 4、衬底材料对 CVD 曲面金刚石膜生长的影响 | 第31-40页 |
| ·光学级 CVD 曲面金刚石自支撑膜的制备 | 第40-43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 第四章 曲面金刚石膜生长 ZnO 纳米棒及 TiO2纳米管 | 第45-57页 |
| ·实验过程 | 第46-48页 |
| ·CVD 曲面金刚石膜的制备 | 第46页 |
| ·水热法制备 ZnO 纳米棒阵列 | 第46-47页 |
| ·液相沉积法制备 TiO2 | 第47页 |
| ·样品表征 | 第47-48页 |
| ·实验结论与分析 | 第48-52页 |
| ·ZnO 纳米棒的形貌及结构 | 第48-49页 |
| ·TiO_2纳米管的形貌及结构 | 第49-51页 |
| ·CVD 曲面金刚石膜上制备 TiO2纳米管的反应机制 | 第51-52页 |
| ·TiO_2纳米管/CVD 曲面金刚石膜光催化性能的研究 | 第52-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第五章 CVD 单晶金刚石的生长及应用 | 第57-71页 |
| ·N_2/O_2对 CVD 单晶金刚石生长的影响 | 第57-60页 |
| ·CO_2对 CVD 单晶金刚石生长的影响 | 第60-63页 |
| ·N_2O 对 CVD 单晶金刚石生长的影响 | 第63-66页 |
| ·高温低压氢等离子体退火对 CVD 单晶金刚石的影响 | 第66-67页 |
| ·大尺寸 CVD 单晶金刚石的获得及应用实例 | 第67-69页 |
| ·高质量 CVD 单晶金刚石的生长 | 第67-68页 |
| ·CVD 单晶金刚石的应用 | 第68-69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 第六章 全文总结 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-83页 |
| 作者简介 | 第83-85页 |
| 攻读博士期间发表论文及专利 | 第85-87页 |
| 致谢 | 第87页 |
