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室温磁致冷GdSiGe系合金的磁相变机理的相关理论研究及纳米化计算

摘要第1-7页
ABSTRACT第7-11页
第一章 绪论第11-23页
   ·引言第11-15页
   ·室温磁致冷材料的磁相变研究概述第15-17页
   ·室温磁致冷材料的纳米化研究概述第17-18页
   ·本论文的研究背景及科学意义第18-19页
   ·本论文的研究思路、主要研究内容及技术路线第19-23页
第二章 Ising模型及其应用第23-47页
   ·引言第23-24页
   ·Ising模型第24-25页
   ·各维Ising模型中相变温度的统一计算第25-34页
   ·Ising模型中最近邻和次近邻耦合相互作用的比较第34-41页
   ·双链Ising模型中的自旋关联第41-45页
   ·Ising模型在室温磁致冷材料中应用第45-47页
   ·本章结论第47页
第三章 Landau-Devonshire理论及其应用第47-63页
   ·引言第48-49页
   ·Landau-Devonshire理论第49-51页
   ·GdSiGe系合金磁相变的唯象机理第51-55页
   ·磁化曲线的数值计算第55-62页
   ·本章结论第62-63页
第四章 GdSiGe合金的纳米化计算及分析第63-78页
   ·引言第63页
   ·相互作用GdSiGe纳米微晶系统的磁熵变计算第63-66页
   ·耦合相互作用对GdSiGe纳米微晶系统磁热性能的影响第66-70页
   ·外场对GdSiGe纳米微晶系统磁热性能的影响第70-73页
   ·纳米微晶磁矩对GdSiGe纳米微晶系统磁热性能的影响第73-77页
   ·本章结论第77-78页
第五章 总结与展望第78-81页
   ·本文的主要贡献第78-79页
   ·今后工作的设想第79-81页
参考文献第81-86页
附件第86-89页
 附件1 本研究承担的科研项目第86-87页
 附件2 本研究发表的学术论文第87-89页
致谢第89页

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