| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 本文常用英文缩略词表 | 第10-15页 |
| 第1章 绪论 | 第15-39页 |
| ·DNA 传感技术 | 第15-21页 |
| ·电化学DNA 传感技术 | 第15-17页 |
| ·质量型DNA 传感技术 | 第17-18页 |
| ·光学DNA 传感技术 | 第18-21页 |
| ·发光DNA 传感技术 | 第18-21页 |
| ·拉曼光谱DNA 传感技术 | 第21页 |
| ·表面等离子体共振DNA 传感技术 | 第21页 |
| ·表面等离子体共振现象及其在DNA 传感中的应用 | 第21-34页 |
| ·基于纳米金属薄膜的表面等离子体共振传感技术 | 第21-29页 |
| ·传感原理 | 第21-24页 |
| ·实现方式 | 第24-27页 |
| ·应用领域 | 第27-29页 |
| ·基于纳米金属颗粒的表面等离子体共振传感技术 | 第29-34页 |
| ·纳米金属颗粒的表面等离子体共振现象 | 第29-31页 |
| ·传感原理及应用 | 第31-34页 |
| ·DNA 传感技术的发展 | 第34-37页 |
| ·发展高灵敏的DNA 传感技术 | 第34-36页 |
| ·发展高选择性的DNA 传感技术 | 第36-37页 |
| ·本文开展的研究工作 | 第37-39页 |
| 第2章 基于二氧化硅包被金膜的纳米金颗粒催化增长增强信号的 SPR 传感器的研究 | 第39-55页 |
| ·前言 | 第39-40页 |
| ·实验部分 | 第40-44页 |
| ·主要试剂与仪器 | 第40-41页 |
| ·实验方法 | 第41-44页 |
| ·缓冲溶液的配制 | 第41-42页 |
| ·SiO_2包被的金膜的表面修饰 | 第42页 |
| ·纳米金颗粒的制备和修饰 | 第42-43页 |
| ·DNA 杂交与去杂交 | 第43页 |
| ·纳米金颗粒催化增长 | 第43页 |
| ·X-射线光电子能谱（XPS），场发射扫描电镜（FE- SEM）和原子力显微镜（AFM）表征 | 第43-44页 |
| ·实验原理 | 第44页 |
| ·结果与讨论 | 第44-54页 |
| ·纳米金颗粒修饰DNA 前后的UV-vis 吸收光谱 | 第44-45页 |
| ·SiO_2包被金膜的表征及Si02层对金沉积的阻挡作用 | 第45-49页 |
| ·SiO_2包被金膜的表征 | 第45-48页 |
| ·SiO_2层对金沉积的阻挡作用 | 第48-49页 |
| ·纳米金颗粒催化增长增强信号的SPR 传感器用于DNA 的检测 | 第49-54页 |
| ·SPR 光谱的变化 | 第49-52页 |
| ·检测范围和选择性 | 第52-54页 |
| ·小结 | 第54-55页 |
| 第3章 基于自组装多层膜修饰金膜的纳米金颗粒催化增长增强信号的 SPR 传感器研究 | 第55-70页 |
| ·前言 | 第55-56页 |
| ·实验部分 | 第56-59页 |
| ·主要试剂与仪器 | 第56页 |
| ·实验方法 | 第56-58页 |
| ·HEPES 缓冲溶液的配制 | 第56-57页 |
| ·金膜的修饰 | 第57-58页 |
| ·纳米金颗粒的制备和修饰 | 第58页 |
| ·DNA 杂交与去杂交 | 第58页 |
| ·纳米金颗粒催化增长 | 第58页 |
| ·X-射线光电子能谱（XPS）和场发射扫描电镜（FE-SEM）表征 | 第58页 |
| ·实验原理 | 第58-59页 |
| ·结果与讨论 | 第59-69页 |
| ·聚电解质在金膜表面的层层自组装 | 第59-60页 |
| ·聚电解质自组装薄膜对金属沉积的阻挡作用 | 第60-64页 |
| ·SPR 检测 | 第60-61页 |
| ·XPS 表征 | 第61-64页 |
| ·纳米金颗粒催化增长增强信号的SPR 传感器用于DNA 的检测 | 第64-69页 |
| ·SPR 光谱的变化 | 第64-66页 |
| ·FE-SEM 表征 | 第66页 |
| ·检测范围和选择性 | 第66-69页 |
| ·小结 | 第69-70页 |
| 第4章 固定化DNA 单层的电致开关行为的研究 | 第70-86页 |
| ·前言 | 第70-71页 |
| ·实验部分 | 第71-74页 |
| ·主要试剂 | 第71页 |
| ·SPR 仪器 | 第71-72页 |
| ·实验方法 | 第72-74页 |
| ·金膜的修饰 | 第72-73页 |
| ·DNA 杂交及去杂交 | 第73-74页 |
| ·表面覆盖率的测定 | 第74页 |
| ·结果与讨论 | 第74-85页 |
| ·金膜表面DNA 探针在电场作用下的摆动 | 第74-80页 |
| ·电场对裸金膜的影响 | 第74-76页 |
| ·电场对金膜表面固定化DNA 探针的作用 | 第76-79页 |
| ·表面覆盖率对固定化DNA 探针取向变化的影响 | 第79-80页 |
| ·固定化DNA 探针的取向变化对DNA 杂交的影响 | 第80-85页 |
| ·与不同浓度的cDNA 杂交 | 第81-82页 |
| ·不同电场作用下的DNA 杂交 | 第82-84页 |
| ·表面覆盖率的影响 | 第84-85页 |
| ·小结 | 第85-86页 |
| 第5章 基于纳米金颗粒辅助的电洗脱识别单碱基错配 DNA 的研究 | 第86-103页 |
| ·前言 | 第86-87页 |
| ·实验部分 | 第87-89页 |
| ·主要试剂及仪器 | 第87-88页 |
| ·实验方法 | 第88-89页 |
| ·6×SSC（pH=7.0）缓冲溶液的配制 | 第88页 |
| ·金膜的修饰 | 第88页 |
| ·纳米金颗粒的制备与修饰 | 第88页 |
| ·DNA 杂交、电洗脱及DNA去杂交 | 第88-89页 |
| ·结果与讨论 | 第89-102页 |
| ·纳米金颗粒辅助的电洗脱对cDNA 杂交形成的dsDNA 的影响 | 第89-90页 |
| ·电洗脱对smDNA 杂交所形成的dsDNA 的影响 | 第90-100页 |
| ·错配碱基发生在与纳米金颗粒标记的巯基DNA 相对应部分 | 第90-95页 |
| ·错配碱基发生在与金膜表面固定化DNA 探针相对应的部分 | 第95-100页 |
| ·机理探讨 | 第100-102页 |
| ·小结 | 第102-103页 |
| 第6章 基于纳米金颗粒催化增长和电洗脱的高灵敏、高选择性的 SPR 传感器 | 第103-115页 |
| ·前言 | 第103-104页 |
| ·实验部分 | 第104-106页 |
| ·主要试剂与仪器 | 第104页 |
| ·实验方法 | 第104-105页 |
| ·金膜的修饰 | 第104页 |
| ·纳米金颗粒的制备与修饰 | 第104-105页 |
| ·DNA 杂交、纳米金颗粒的催化增长、电洗脱和去杂交 | 第105页 |
| ·实验原理 | 第105-106页 |
| ·结果与讨论 | 第106-113页 |
| ·电场对聚电解质自组装多层膜(PAH/PSS)_3修饰的金膜的影响 | 第106-108页 |
| ·电场对固定DNA探针前后的(PAH/PSS)_3修饰的金膜的影响 | 第106-107页 |
| ·不同电场强度的影响 | 第107-108页 |
| ·目标DNA 的检测 | 第108-113页 |
| ·检测33 nmol/L 的完全匹配目标DNA 和单碱基错配目标DNA | 第108-111页 |
| ·不同电场强度的影响 | 第111-112页 |
| ·不同浓度目标DNA 的检测 | 第112-113页 |
| ·小结 | 第113-115页 |
| 结论 | 第115-117页 |
| 参考文献 | 第117-136页 |
| 附录 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第136-138页 |
| 论文 | 第136-137页 |
| 专利 | 第137-138页 |
| 致谢 | 第138页 |
