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大功率电晕表面处理机的研究及设计

摘要第1-5页
Abstract第5-9页
1 绪论第9-25页
   ·等离子体的概念第10-12页
     ·低温等离子体的基本概念及分类第10-11页
     ·介质阻挡放电等离子体技术第11-12页
   ·电晕处理技术第12-15页
     ·电晕处理的工艺路线形式第12页
     ·影响电晕处理效果的因素第12-14页
     ·电晕的处理程度第14-15页
     ·电晕处理后的时效影响第15页
   ·电晕处理机理和设备结构第15-17页
     ·电晕处理塑料薄膜机理第15-16页
     ·电晕处理设备结构第16-17页
   ·介质阻挡放电的等效模型及负载特性第17-19页
     ·介质阻挡放电的等效模型第17-18页
     ·介质阻挡放电的负载特性第18-19页
   ·电晕表面处理机电源的控制技术概述第19-23页
     ·脉冲幅值调制第19-20页
     ·脉冲频率调制第20-21页
     ·脉冲密度调制第21-22页
     ·移相脉宽调制第22-23页
   ·本课题的来源与主要研究内容第23-25页
     ·本课题的意义第23页
     ·本课题的主要研究内容第23-25页
2 电晕表面处理机的设计第25-56页
   ·主电路结构第25-28页
     ·电源的整体结构设计第25-26页
     ·主电路结构第26-27页
     ·全桥逆变拓扑的设计第27-28页
   ·三相可控整流滤波电路的设计第28-31页
   ·移相PWM控制方案分析第31-41页
     ·负载分析第31-32页
     ·移相PWM控制方案分析第32-39页
     ·三种移相PWM控制方式小结第39页
     ·感性移相PWM控制方法各参数之间的关系分析第39-41页
   ·电晕处理机移相式PWM软开关高压逆变电源的控制电路第41-45页
     ·移控制芯片UC3875为核心的PWM控制第41-42页
     ·UC3875外围电路的设计第42-45页
   ·驱动及逆变电路第45-48页
   ·电源的输出反馈及保护第48-51页
     ·输出反馈环节第48-49页
     ·保护电路第49-51页
   ·显示电路第51-53页
   ·辅助电源的设计第53-55页
     ·辅助电源变压器的设计第54页
     ·三端固定集成稳压电源第54-55页
   ·小结第55-56页
3 电晕表面处理机电源主要器件的选择第56-71页
   ·可控硅的选择第56-57页
   ·滤波电路器件参数的设计第57-58页
   ·电源功率管的选取第58-63页
     ·IGBT的基本结构第59-60页
     ·IGBT的工作原理和工作特性第60-62页
     ·开关器件IGBT的计算与选择第62-63页
   ·高频高压开关变压器的选择第63-65页
     ·变压器磁芯材料的选择第63-64页
     ·变压器磁芯结构的选择第64页
     ·变压器线圈的绕制第64-65页
   ·高频高压开关变压器的计算第65-69页
     ·变压器磁芯的计算第65-67页
     ·变压器原副边匝数的计算第67-68页
     ·确定绕线线径第68页
     ·变压器线圈绕制第68-69页
   ·变压器制作的注意事项第69页
   ·小结第69-71页
4 损耗分析第71-75页
   ·IGBT的损耗第71-72页
   ·变压器的损耗分析第72-75页
5 系统的散热与抗干扰第75-77页
   ·系统的散热第75-76页
   ·系统的抗干扰第76-77页
6 实验结果第77-79页
结论与展望第79-80页
参考文献第80-83页
攻读硕士学位期间发表学术论文情况第83-84页
致谢第84-85页

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