摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
1 绪论 | 第9-25页 |
·等离子体的概念 | 第10-12页 |
·低温等离子体的基本概念及分类 | 第10-11页 |
·介质阻挡放电等离子体技术 | 第11-12页 |
·电晕处理技术 | 第12-15页 |
·电晕处理的工艺路线形式 | 第12页 |
·影响电晕处理效果的因素 | 第12-14页 |
·电晕的处理程度 | 第14-15页 |
·电晕处理后的时效影响 | 第15页 |
·电晕处理机理和设备结构 | 第15-17页 |
·电晕处理塑料薄膜机理 | 第15-16页 |
·电晕处理设备结构 | 第16-17页 |
·介质阻挡放电的等效模型及负载特性 | 第17-19页 |
·介质阻挡放电的等效模型 | 第17-18页 |
·介质阻挡放电的负载特性 | 第18-19页 |
·电晕表面处理机电源的控制技术概述 | 第19-23页 |
·脉冲幅值调制 | 第19-20页 |
·脉冲频率调制 | 第20-21页 |
·脉冲密度调制 | 第21-22页 |
·移相脉宽调制 | 第22-23页 |
·本课题的来源与主要研究内容 | 第23-25页 |
·本课题的意义 | 第23页 |
·本课题的主要研究内容 | 第23-25页 |
2 电晕表面处理机的设计 | 第25-56页 |
·主电路结构 | 第25-28页 |
·电源的整体结构设计 | 第25-26页 |
·主电路结构 | 第26-27页 |
·全桥逆变拓扑的设计 | 第27-28页 |
·三相可控整流滤波电路的设计 | 第28-31页 |
·移相PWM控制方案分析 | 第31-41页 |
·负载分析 | 第31-32页 |
·移相PWM控制方案分析 | 第32-39页 |
·三种移相PWM控制方式小结 | 第39页 |
·感性移相PWM控制方法各参数之间的关系分析 | 第39-41页 |
·电晕处理机移相式PWM软开关高压逆变电源的控制电路 | 第41-45页 |
·移控制芯片UC3875为核心的PWM控制 | 第41-42页 |
·UC3875外围电路的设计 | 第42-45页 |
·驱动及逆变电路 | 第45-48页 |
·电源的输出反馈及保护 | 第48-51页 |
·输出反馈环节 | 第48-49页 |
·保护电路 | 第49-51页 |
·显示电路 | 第51-53页 |
·辅助电源的设计 | 第53-55页 |
·辅助电源变压器的设计 | 第54页 |
·三端固定集成稳压电源 | 第54-55页 |
·小结 | 第55-56页 |
3 电晕表面处理机电源主要器件的选择 | 第56-71页 |
·可控硅的选择 | 第56-57页 |
·滤波电路器件参数的设计 | 第57-58页 |
·电源功率管的选取 | 第58-63页 |
·IGBT的基本结构 | 第59-60页 |
·IGBT的工作原理和工作特性 | 第60-62页 |
·开关器件IGBT的计算与选择 | 第62-63页 |
·高频高压开关变压器的选择 | 第63-65页 |
·变压器磁芯材料的选择 | 第63-64页 |
·变压器磁芯结构的选择 | 第64页 |
·变压器线圈的绕制 | 第64-65页 |
·高频高压开关变压器的计算 | 第65-69页 |
·变压器磁芯的计算 | 第65-67页 |
·变压器原副边匝数的计算 | 第67-68页 |
·确定绕线线径 | 第68页 |
·变压器线圈绕制 | 第68-69页 |
·变压器制作的注意事项 | 第69页 |
·小结 | 第69-71页 |
4 损耗分析 | 第71-75页 |
·IGBT的损耗 | 第71-72页 |
·变压器的损耗分析 | 第72-75页 |
5 系统的散热与抗干扰 | 第75-77页 |
·系统的散热 | 第75-76页 |
·系统的抗干扰 | 第76-77页 |
6 实验结果 | 第77-79页 |
结论与展望 | 第79-80页 |
参考文献 | 第80-83页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第83-84页 |
致谢 | 第84-85页 |