大冲程高表面质量MEMS微变形镜实现技术的研究

摘要	第1-4页
Abstract	第4-6页
目录	第6-8页
第一章 绪论	第8-20页
·自适应光学系统简介	第8-11页
·自适应光学系统的组成和原理	第8-10页
·自适应光学系统的评价指标	第10-11页
·分立式微变形镜简介	第11-16页
·分立式微变形镜结构和驱动原理	第11-13页
·分立式微变形镜的波前校正原理	第13-16页
·自适应光学系统对微变形镜的要求	第16-17页
·微变形镜的国内外研究现状	第17-18页
·本文研究的目的和主要内容	第18-20页
第二章 分立式微变形镜光机电特性分析	第20-35页
·分立式微变形镜的机电特性分析	第20-23页
·微变形镜拉入现象分析	第20-22页
·微变形镜的瞬态响应分析	第22-23页
·分立式微变形镜光学特性分析	第23-34页
·微变形镜的多晶硅反射特性分析	第23-28页
·释放孔引起的衍射效应分析	第28-30页
·表面粗糙度造成的散射引起反射率损耗的分析	第30-32页
·微变形镜的最大处理光学功率分析	第32-34页
·本章小结	第34-35页
第三章 增大分立式微变形镜冲程方法的研究	第35-57页
·MUMPs工艺及静电驱动对冲程的限制	第35-37页
·串联电容法增大冲程的研究	第37-46页
·串联平板电容增大冲程的分析	第37-41页
·串联电容时寄生电容问题	第41-43页
·倾斜扭转对串联电容增大冲程的影响	第43-46页
·非线性弹性梁法增大冲程的研究	第46-53页
·简支梁单独作用时拉入现象分析	第46-48页
·悬臂梁作用时拉入现象分析	第48-50页
·触点作用时拉入现象分析	第50-53页
·增大冲程的其它方法简介	第53-56页
·杠杆弯曲法增大冲程方法简介	第53-54页
·静电斥力法增大冲程方法简介	第54-56页
·本章小结	第56-57页
第四章 提高分立式微变形镜表面质量方法的研究	第57-81页
·影响微变形镜表面质量因素分析	第57-60页
·MUMPs工艺保形覆盖造成表面凸起或凹陷	第57-59页
·多晶硅层中应力梯度造成表面弯曲	第59-60页
·降低MUMPs工艺保形覆盖造成的表面凸起或凹陷	第60-67页
·版图平整化设计降低表面凸起或凹陷	第60-64页
·.化学机械抛光降低表面形貌的PV值	第64-67页
·应力梯度造成表面弯曲和应力补偿的仿真	第67-79页
·应力梯度造成的弯曲理论分析及仿真	第67-71页
·应力梯度造成表面弯曲和应力补偿有限元仿真	第71-79页
·本章小结	第79-81页
第五章 总结与展望	第81-85页
·总结	第81-82页
·展望	第82-85页
参考文献	第85-89页
研究生期间发表的论文	第89页
参加科研项目的情况	第89-90页
致谢	第90-91页