基于MEMS的光学电流传感器与微纳安检流计的研究
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-10页 |
第一章前言 | 第10-38页 |
·光学电流传感器 | 第13-24页 |
·光学电流传感器的类型 | 第13-20页 |
·国内外的研究与现状 | 第20-23页 |
·存在问题与研究方向 | 第23-24页 |
·微纳安检流计 | 第24-29页 |
·微弱电流的检测需求 | 第24-25页 |
·检流计的类型 | 第25-29页 |
·MEMS技术与扭转微镜 | 第29-34页 |
·MEMS技术 | 第29-32页 |
·MEMS扭转微镜 | 第32-34页 |
·本论文研究的主要工作 | 第34-38页 |
·本论文的目的 | 第34-36页 |
·论文的创新点 | 第36页 |
·论文的内容 | 第36-38页 |
第二章 光学电流传感器原理与设计 | 第38-86页 |
·Rogowski线圈 | 第40-42页 |
·基本要求 | 第40-41页 |
·材料的选取 | 第41-42页 |
·恒定磁场驱动式MEMS-OCS | 第42-64页 |
·敏感原理 | 第42-49页 |
·器件的参数设计 | 第49-56页 |
·性能模拟 | 第56-60页 |
·ANSYS有限元分析 | 第60-64页 |
·交变磁场驱动式MEMS-OCS | 第64-72页 |
·敏感原理 | 第64-67页 |
·参数的设计 | 第67-71页 |
·性能模拟分析 | 第71-72页 |
·MEMS线圈自感应式OCS | 第72-78页 |
·敏感原理 | 第73-75页 |
·参数设计 | 第75-77页 |
·性能模拟 | 第77-78页 |
·掺杂硅引线的器件设计与模拟 | 第78-85页 |
·迁移率、电阻率与温度的关系 | 第79-81页 |
·电阻的温度系数 | 第81-82页 |
·器件的设计模拟 | 第82-85页 |
·小结 | 第85-86页 |
第三章 微纳安检流计设计 | 第86-92页 |
·敏感原理 | 第86-87页 |
·光学检测 | 第87-89页 |
·参数设计 | 第89-90页 |
·小结 | 第90-92页 |
第四章光学检测原理 | 第92-101页 |
·反射式光纤传感 | 第92-94页 |
·双光纤准直器 | 第94-99页 |
·自聚焦透镜 | 第94-96页 |
·两个单模光纤准直器的耦合 | 第96-97页 |
·双光纤准直器的耦合 | 第97-99页 |
·微镜转角与损耗的关系 | 第99-100页 |
·小结 | 第100-101页 |
第五章 MEMS扭转微镜的工艺制作 | 第101-127页 |
·版图设计与工艺考虑 | 第101-103页 |
·版图设计 | 第101-102页 |
·工艺考虑 | 第102-103页 |
·金属引线的器件制作工艺 | 第103-121页 |
·K0H深腐蚀 | 第104-108页 |
·制作金属引线 | 第108-112页 |
·刻蚀互连孔 | 第112-113页 |
·制作驱动线圈 | 第113-114页 |
·制作反射镜面 | 第114页 |
·刻梁释放结构 | 第114-121页 |
·掺杂硅引线的器件制作工艺 | 第121-125页 |
·掺杂硅引线的制作 | 第121-122页 |
·K0H深腐蚀 | 第122-123页 |
·刻蚀互连孔 | 第123页 |
·制作驱动线圈 | 第123-124页 |
·制作反射镜面 | 第124-125页 |
·ICP刻梁 | 第125页 |
·小结 | 第125-127页 |
第六章 器件的测试结果 | 第127-141页 |
·永磁铁基座设计与磁场检测 | 第127-129页 |
·光学电流传感器的测试结果 | 第129-135页 |
·电阻与电容 | 第131页 |
·传感器性能测试 | 第131-135页 |
·微纳安检流计的测试结果 | 第135-140页 |
·灵敏度 | 第135-136页 |
·分辨力 | 第136-138页 |
·响应与恢复特性 | 第138页 |
·稳定性 | 第138-139页 |
·迟滞性 | 第139-140页 |
·大电流检测 | 第140页 |
·小结 | 第140-141页 |
第七章总结 | 第141-143页 |
参考文献 | 第143-150页 |
攻读博士学位期间发表的学术论文目录 | 第150-151页 |
致谢 | 第151-152页 |
个人简历 | 第152-153页 |