集成薄膜型气体传感器的研究
| 中文摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-20页 |
| 第1章 绪论 | 第20-37页 |
| ·气体传感器及其发展历程 | 第20-23页 |
| ·微结构气体传感器 | 第23-34页 |
| ·MEMS概述 | 第23-26页 |
| ·微结构气体传感器的研究现状 | 第26-32页 |
| ·微结构气体传感器的发展趋势 | 第32-34页 |
| ·二氧化氮气体传感器 | 第34-36页 |
| ·二氧化氮气体传感器的意义 | 第34-35页 |
| ·二氧化氮气体传感器的研究动态 | 第35-36页 |
| ·本课题的主要研究工作 | 第36-37页 |
| 第2章 气体传感器的工作原理和结构设计 | 第37-50页 |
| ·气体传感器的结构 | 第37-41页 |
| ·多晶硅电极 | 第38-40页 |
| ·电极隔离层 | 第40-41页 |
| ·半导体气体传感器的工作原理 | 第41-43页 |
| ·气体传感器的热分析 | 第43-45页 |
| ·多晶硅电极的设计 | 第45-49页 |
| ·采用ANSYS进行稳态热分析的基本过程 | 第45-48页 |
| ·两种电极排布方式下的温度分布模拟 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第3章 气体传感器的制备与多晶硅电极温度特性测试 | 第50-72页 |
| ·加工工艺概述 | 第50-62页 |
| ·刻蚀工艺 | 第50-57页 |
| ·薄膜制备工艺 | 第57-59页 |
| ·扩散工艺 | 第59-61页 |
| ·双面光刻 | 第61-62页 |
| ·气体传感器的工艺流程设计和模拟 | 第62-65页 |
| ·Intellisuit | 第62页 |
| ·制备工艺方案的设计和模拟 | 第62-65页 |
| ·气体传感器的制备工艺流程 | 第65-69页 |
| ·多晶硅电极的温度特性测试 | 第69-70页 |
| ·本章小结 | 第70-72页 |
| 第4章 酞菁铜敏感膜的制备与测试 | 第72-82页 |
| ·酞菁气敏材料的结构和敏感机理 | 第72-75页 |
| ·酞菁气敏材料的结构 | 第72-74页 |
| ·酞菁气敏材料的敏感机理 | 第74-75页 |
| ·酞菁铜敏感膜的制备 | 第75-77页 |
| ·酞菁铜配合物的制备 | 第75-76页 |
| ·酞菁铜敏感膜的制备 | 第76-77页 |
| ·酞菁铜敏感膜气敏特性的测试 | 第77-81页 |
| ·测试系统 | 第77页 |
| ·测试结果与分析 | 第77-81页 |
| ·本章小结 | 第81-82页 |
| 结论 | 第82-84页 |
| 致谢 | 第84-85页 |
| 攻读硕士学位期间所发表的论文 | 第85-86页 |
| 参考文献 | 第86-92页 |
| 独创性声明 | 第92页 |
| 学位论文版权使用授权书 | 第92页 |
