| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-14页 |
| 第1章 绪论 | 第14-31页 |
| ·研究背景与课题来源 | 第14-23页 |
| ·用户对创新产品的需求趋势 | 第14-15页 |
| ·复杂产品研发所面临的风险 | 第15-16页 |
| ·复杂产品研发风险产生的后果 | 第16-19页 |
| ·课题来源 | 第19-20页 |
| ·光刻设备简介 | 第20-23页 |
| ·国内外研究现状 | 第23-28页 |
| ·风险管理研究现状 | 第23-24页 |
| ·复杂产品研发技术风险分析研究现状 | 第24-28页 |
| ·本文主要研究内容及论文结构 | 第28-29页 |
| ·研究内容 | 第28页 |
| ·论文结构 | 第28-29页 |
| ·本章小结 | 第29-31页 |
| 第2章 复杂产品研发技术风险管理体系结构研究 | 第31-51页 |
| ·引言 | 第31页 |
| ·复杂产品研发及其技术风险 | 第31-36页 |
| ·产品系统 | 第31-33页 |
| ·研发过程系统 | 第33-34页 |
| ·复杂产品研发技术风险 | 第34-36页 |
| ·复杂产品研发技术风险管理的体系结构 | 第36-42页 |
| ·复杂产品研发技术风险管理功能层次 | 第37-41页 |
| ·复杂产品研发技术风险管理过程层次 | 第41-42页 |
| ·复杂产品研发技术风险的识别方法 | 第42-45页 |
| ·产品技术风险识别 | 第42-43页 |
| ·复杂产品研发过程技术风险识别 | 第43-45页 |
| ·基于贝叶斯网络的复杂产品研发技术风险评估方法 | 第45-50页 |
| ·概述 | 第45页 |
| ·贝叶斯网络的基本理论 | 第45-48页 |
| ·贝叶斯网络的推理 | 第48-49页 |
| ·基于贝叶斯网络的技术风险评估方法 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第3章 基于产品结构的产品技术风险识别建模 | 第51-70页 |
| ·引言 | 第51页 |
| ·复杂产品技术风险识别的基本原理 | 第51-59页 |
| ·复杂产品系统分析 | 第51-55页 |
| ·产品功能、行为和结构的关系 | 第55-57页 |
| ·复杂产品技术风险识别过程 | 第57-59页 |
| ·系统级产品技术风险识别 | 第59-67页 |
| ·市场调研 | 第60页 |
| ·关键需求 | 第60-61页 |
| ·功能性能需求说明书 | 第61页 |
| ·工程需求说明书 | 第61-62页 |
| ·功能分解 | 第62-65页 |
| ·产品结构分析 | 第65-66页 |
| ·行为分析 | 第66-67页 |
| ·基于产品结构的复杂产品技术风险识别模型 | 第67-69页 |
| ·复杂产品技术风险事件 | 第67页 |
| ·复杂产品技术风险影响因素 | 第67-68页 |
| ·基于产品结构的复杂产品技术风险识别模型 | 第68-69页 |
| ·本章小结 | 第69-70页 |
| 第4章 基于活动的复杂产品研发过程技术风险识别建模 | 第70-95页 |
| ·引言 | 第70页 |
| ·复杂产品研发过程技术风险识别的基本思路 | 第70-79页 |
| ·产品研发过程分析 | 第70-72页 |
| ·产品研发过程系统特性 | 第72-74页 |
| ·活动及其分类 | 第74-78页 |
| ·复杂产品研发过程技术风险构成 | 第78-79页 |
| ·复杂产品研发活动内的技术风险识别 | 第79-86页 |
| ·产品研发过程的分解 | 第79-80页 |
| ·活动内的技术风险识别 | 第80-86页 |
| ·基于活动的复杂产品研发过程技术风险识别 | 第86-93页 |
| ·活动的时序关系 | 第86-88页 |
| ·设计结构矩阵 | 第88-91页 |
| ·活动间的技术风险识别 | 第91-93页 |
| ·基于活动的复杂产品研发过程技术风险识别模型 | 第93-94页 |
| ·本章小结 | 第94-95页 |
| 第5章 基于贝叶斯网络的复杂产品研发技术风险评估建模 | 第95-104页 |
| ·引言 | 第95页 |
| ·基于贝叶斯网络的技术风险评估建模 | 第95-102页 |
| ·产品技术风险评估模型 | 第95-100页 |
| ·过程技术风险评估模型 | 第100-102页 |
| ·敏感性分析 | 第102-103页 |
| ·本章小结 | 第103-104页 |
| 第6章 应用实例与分析 | 第104-119页 |
| ·引言 | 第104页 |
| ·光刻机研发的风险分析 | 第104-118页 |
| ·概述 | 第104-109页 |
| ·产品技术风险分析 | 第109-114页 |
| ·光刻设备研发过程技术风险分析 | 第114-118页 |
| ·本章小结 | 第118-119页 |
| 第7章 结论与展望 | 第119-122页 |
| ·结论 | 第119-120页 |
| ·论文创新点 | 第120-121页 |
| ·展望 | 第121-122页 |
| 致谢 | 第122-123页 |
| 参考文献 | 第123-131页 |
| 个人简历 在读期间发表的学术论文与研究成果 | 第131-132页 |