| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-17页 |
| 参考文献 | 第11-17页 |
| 第二章 文献综述 | 第17-31页 |
| ·Al_20_3 载体的研究现状 | 第17-22页 |
| ·金属Mo 的研究现状 | 第22-24页 |
| ·Al_20_3负载的Mo基催化剂的研究现状 | 第24-25页 |
| 参考文献 | 第25-31页 |
| 第三章 实验部分 | 第31-44页 |
| ·仪器描述 | 第31-33页 |
| ·表面分析技术基本理论 | 第33-41页 |
| ·俄歇电子能谱(AES) | 第33-34页 |
| ·X 射线光电子能谱(XPS) | 第34-35页 |
| ·高分辨能量损失谱(HREELS) | 第35-38页 |
| ·紫外光电子能谱(UPS) | 第38-39页 |
| ·热脱附谱(TDS) | 第39-41页 |
| ·实验方法 | 第41-42页 |
| ·单晶样品的清洁 | 第41页 |
| ·Al_20_3 薄膜的制备 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-44页 |
| 第四章 Al_20_3薄膜的制备与表征 | 第44-64页 |
| ·Al_20_3 薄膜的制备 | 第44-55页 |
| ·Al_20_3 薄膜的化学吸附性质 | 第55-60页 |
| ·小结 | 第60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 第五章 Mo(0)/Al_20_3模型表面的制备与表征 | 第64-107页 |
| ·Mo(CO)_6在Al_20_3薄膜上的吸附和热分解 | 第64-70页 |
| ·Mo(0)/Al_20_3 模型表面的制备 | 第70-81页 |
| ·Mo 在Al_20_3 薄膜表面的落位 | 第81-89页 |
| ·Al_20_3 薄膜表面上羰基钼物种的可逆再生 | 第89-98页 |
| ·小结 | 第98-99页 |
| 参考文献 | 第99-107页 |
| 第六章 钼的碳化物和氧化物的研究 | 第107-133页 |
| ·钼的碳化物表面 | 第107-116页 |
| ·钼的氧化物表面 | 第116-120页 |
| ·钼的碳化物和氧化物的相互转化 | 第120-125页 |
| ·小结 | 第125页 |
| 参考文献 | 第125-133页 |
| 第七章 热脱附数据的能谱支持 | 第133-161页 |
| ·Al_20_3 薄膜的制备 | 第134-140页 |
| ·CO/Al_20_3 的能谱研究 | 第140-142页 |
| ·Mo(CO)_6/Al_20_3的能谱研究 | 第142-148页 |
| ·Al_20_3表面上金属Mo的沉积 | 第148-154页 |
| ·CO/Mo+Al_20_3 的能谱研究 | 第154-157页 |
| ·小结 | 第157-158页 |
| 参考文献 | 第158-161页 |
| 第八章 结论 | 第161-163页 |
| 作者简介及发表文章目录 | 第163-165页 |
| 致谢 | 第165页 |