| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-16页 |
| 第一章 绪论 | 第16-60页 |
| ·纳米压印 | 第16-20页 |
| ·紫外纳米压印光刻胶 | 第20-50页 |
| ·压印光刻胶的特性 | 第20-22页 |
| ·紫外纳米压印光刻胶 | 第22-50页 |
| ·紫外压印胶国内研究现状 | 第50-51页 |
| ·论文研究的目的和主要内容 | 第51-52页 |
| ·参考文献 | 第52-60页 |
| 第二章 基于硫烯点击化学的含POSS的紫外纳米压印光刻胶 | 第60-84页 |
| ·引言 | 第60-62页 |
| ·实验部分 | 第62-67页 |
| ·原料和试剂 | 第62页 |
| ·分析与表征 | 第62-64页 |
| ·紫外压印及图形转移 | 第64-66页 |
| ·POSS-SH的合成 | 第66页 |
| ·SH和-C=C-转化率的计算方法 | 第66-67页 |
| ·结果与讨论 | 第67-80页 |
| ·POSS-SH的合成与表征 | 第67-69页 |
| ·紫外压印胶组份及其物理性能 | 第69-75页 |
| ·紫外压印及图形转移 | 第75-80页 |
| ·本章小结 | 第80页 |
| ·参考文献 | 第80-84页 |
| 第三章 基于硫.烯点击化学的氟化的紫外纳米压印光刻胶及其制各软模板 | 第84-106页 |
| ·引言 | 第84-85页 |
| ·实验部分 | 第85-89页 |
| ·原料和试剂 | 第85-86页 |
| ·分析与表征 | 第86页 |
| ·软模板制备及其压印 | 第86-88页 |
| ·POSS-F-SH的合成 | 第88-89页 |
| ·聚合物膨胀率测定方法 | 第89页 |
| ·结果与讨论 | 第89-103页 |
| ·POSS-F-SH的合成与表征 | 第89-92页 |
| ·紫外压印胶组份及其物理性能 | 第92-98页 |
| ·软模板制备及其压印 | 第98-103页 |
| ·本章小结 | 第103页 |
| ·参考文献 | 第103-106页 |
| 第四章 基于硫-炔点击化学的杂化紫外压印胶 | 第106-129页 |
| ·引言 | 第106-107页 |
| ·实验部分 | 第107-109页 |
| ·原料和试剂 | 第107-108页 |
| ·分析与表征 | 第108页 |
| ·紫外压印及图形转移 | 第108页 |
| ·POSS-SH-OA的合成 | 第108页 |
| ·PPGY的合成 | 第108-109页 |
| ·结果与讨论 | 第109-126页 |
| ·POSS-SH-OA的合成与表征 | 第109-111页 |
| ·PPGY的合成与表征 | 第111-113页 |
| ·紫外压印胶组份及其物理性能 | 第113-121页 |
| ·紫外压印及图形转移 | 第121-126页 |
| ·本章小结 | 第126-127页 |
| ·参考文献 | 第127-129页 |
| 第五章 光可逆紫外纳米压印胶 | 第129-148页 |
| ·引言 | 第129-130页 |
| ·实验部分 | 第130-133页 |
| ·料和试剂 | 第130页 |
| 5 2 2 分析与表征 | 第130-131页 |
| ·紫外压印及图形转移 | 第131-132页 |
| ·光可逆交联剂AHEMC的制备 | 第132-133页 |
| ·光可逆性能的测试方法 | 第133页 |
| ·结果与讨论 | 第133-145页 |
| ·光可逆交联剂AHEMC的合成与表征 | 第133-135页 |
| ·紫外压印胶组份及其机理 | 第135-137页 |
| ·紫外压印胶的光可逆性能 | 第137-141页 |
| ·4 紫外压印及图形转移 | 第141-145页 |
| ·本章小结 | 第145-146页 |
| ·参考文献 | 第146-148页 |
| 第六章 总结及展望 | 第148-152页 |
| 致谢 | 第152-154页 |
| 攻读博士学位期间已发表或录用的论文和专利 | 第154-155页 |